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Sigma 系列zeiss场发射电子显微镜 扫描电镜
zeiss场发射电子显微镜 扫描电镜
Sigma 系列产品用于高品质成像与高级分析的场发射扫描电子显微镜.
灵活的探测,4步工作流程,高级的分析性能
将高级的分析性能与场发射扫描技术相结合,利用成熟的 Gemini 电子光学元件。多种探测器可选:用于颗粒、表面或者纳米结构成像。Sigma 半自动的4步工作流程节省大量的时间:设置成像与分析步骤,提高效率。
Sigma 300 性价比高。Sigma 500 装配有的背散射几何探测器,可快速方便地实现基础分析。任何时间,任何样品均可获得可重复的分析结果。
产品特点
Sigma 300 可提供
Sigma Element 是一种集成式 EDS 解决方案,拥有高可用性和低电压灵敏度。仅需使用一台计算机来控制 EDS 和 SEM,进而大大提升了该集成化解决方案的易用性。同时,借助专门为显微镜和 EDS 操作设计的用户界面可实现并行控制。
• 集成化:通过集成化,结合高清晰成像与快速分析,从而获得不错结果
• 定制化:根据不同的用户需求定制软件
• 灵敏度:*的氮化硅窗口增强低能X射线的探测灵敏度
获取样品中化学结构的指纹信息:聚焦拉曼光谱成像可扩展您的蔡司Sigma 300 扫描电镜性能。 分析获得样品分子结构和结晶信息。 通过拉曼成像与EDS数据可进行3D 分析并与SEM图像关联。*集成化的拉曼成像扫描电镜联用系统使你充分发挥SEM和拉曼系统的功能。
技术参数
型号 | Sigma 300 | Sigma 500 |
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电子源 Schottky 热场发射器 | Schottky 热场发射器 | ||
分辨率* 30 kV(STEM) | 1.0 nm | 0.8 nm |
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分辨率*为15 kV | 1.0 nm | 0.8 nm |
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分辨率* at 1 kV | 1.6 nm | 1.4 nm |
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分辨率* 30 kV(VP模式) | 2.0 nm | 1.5 nm |
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反向散射检测器(BSD) HD BSD | HD BSD | ||
扫描速度 50 ns /像素 | 50 ns /像素 |
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加速电压 0.02 – 30 kV | 0.02 – 30 kV |
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放大倍率 10× – 1,000,000× | 10× – 1,000,000× |
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探针电流 3 pA - 20 nA(任选100 nA) | 3 pA - 20 nA(任选100 nA) |
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图像帧库 32 k×24 k像素 | 32 k×24 k像素 |
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端口 | 10 | 14 |
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EDS端口 | 2(1个端口) | 3(2个端口) |
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*工作距离; 在终安装时,分辨率在1kV和15kV高真空系统验收测试中得到证实 | |||
真空模式 | |||
高真空 | 有 |
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可变压力 | 10 – 133 Pa |
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Stage 类型 | 5轴同心级 | 5轴偏心平台 | 5轴同心级选件 |
Stage X行程 | 125 mm | 130 mm | 125 mm |
Stage Y行程 | 125 mm | 130 mm | 125 mm |
Stage Z行程 | 50 mm | 50 mm | 38 mm |
Stage T行程 | -10到+90度 | -4到+70度 | -10到+90度 |
Stage R行程 | 360° 连续 | 360°连续 | 360° 连续 |