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大肠杆菌细胞破碎后的液体中含蛋白质40-70%，核酸10-30%，多糖2-10%，脂类10-15%。该液体之所以显黏性是由细胞破碎后核酸释放出来造成的。可以加入DNase来消化掉核酸污染。

IKN管线式高剪切研磨分散机是由IKN研发工程师于2013年新研发的一款用于物料精细研磨，分散，乳化，均质的高精度设备，高剪切研磨分散机结合了IKN高剪切胶体磨与IKN高剪切分散均质乳化机的高速研磨，分散，乳化，均质等功能，设备转速可达14000rpm，是目前国产设备转速的4-5倍。  

CMD2000系列研磨分散设备是IKN（上海）公司经过研究刚刚研发出来的一款新型产品，该机特别适合于需要研磨分散乳化均质一步到位的物料。我们将三级高剪切均质乳化机进行改装，我们将三级变更为一级，然后在乳化头上面加配了胶体磨磨头，使物料可以先经过胶体磨细化物料，然后再经过乳化机将物料分散乳化均质。胶体磨可根据物料要求进行更换（我们提供了2P，2G，4M，6F，8SF等五种乳化头供客户选择）

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CMD2000系列研磨分散机的结构：

研磨式分散机是由锥体磨,分散机组合而成的高科技产品。

*级由具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下，凹槽在每级都可以改变方向。

第二级由转定子组成。分散头的设计也很好地满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。

CMD2000系列研磨分散机的特点：

①  线速度很高，剪切间隙非常小，当物料经过的时候，形成的摩擦力就比较剧烈，结果就是通常所说的湿磨

②  定转子被制成圆椎形，具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。

③  定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离

④  在增强的流体湍流下，凹槽在每级都可以改变方向。

⑤  高质量的表面抛光和结构材料，可以满足不同行业的多种要求。

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详情请接洽上海依肯,段，手机，(同) ，公司有样机供客户实验