半导体和LCD用瑞泽高纯氨气干燥装置 

双式结构，开机后一组工作， 另一组再生备用,而且工作和再生都自动进行，故能连续供气，一台能顶单式的两台使用。

本装置双系统结构，开机后一组工作，另一组再生备用，且工作和再生都自动进行，故能够*连续供气；当杂质吸附饱和后，可通过再生恢复活性，故寿命长。

工艺要求：

液氨进入氨气干燥装置后杂质含量应控制为：

氨气露点≤-60℃     流量1~500Nm³/h     尘埃颗粒＜0.1μm      

含油量＜0.1ppm

工作压力0~0.8 MPa    本装置压降＜0.05MPa 

本装置应用领域：化工、冶金工业、还原工艺等。氨气干燥过滤装置，采用工业氨作为原料，采用氨分子筛吸附原料氨中的水分，并经过精密氨过滤器的过滤除去粉尘和油分，以保证后级使用在无杂质、无水分的状态下稳定工作

半导体和LCD用瑞泽高纯氨气干燥装置售后服务

为了解除用户选用我公司产品的后顾之忧，我们一贯奉行如下的满意服务标准。

1.        如果产品本身存在任何质量问题，我公司负责包修，包换，包退；

2.        如果产品在运输途中损坏，我公司负责包修，包换，包退；

3.        在保修期内的使用损坏，我公司负责包修，包换，包退；

4.        产品的免费保修期为一年；

5.        我公司提供终身有偿维修服务，只收取相关维修材料费用及差旅费用。

氨气纯化设备，氨气纯化机，氨气提纯设备，氨气提纯装置，氨气净化机