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医药乳膏超高速均质胶体磨-双螺旋混合机

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乳膏剂的制备方法与软膏剂基本相同，但必须在清洁、灭菌的环境下进行，严防微生物的污染。 乳膏中的药物，能溶于基质或基质组分者可制成溶液性乳膏剂；不溶性药物应先研成极细粉末，将药粉与少量基质或液状石蜡研成糊状，再与基质混合制成混悬型乳膏剂。一般先制备乳膏基质，然后采用适宜方法加入药物，制成乳膏剂。乳膏剂的基质应过滤并除菌，不溶性 物应预先制成极细粉。

一种乳膏的制备方法，包括以下步骤：

制得的滤液I、滤液II与步骤⑵制得的滤汁混合均勾，然后将其 喷雾干燥，得到混合药粉；

将白茅根用武火炒至其表面焦黑色，取出凉透后与蛇床子混合进行超微粉碎， 并过625目筛，收集所得筛下物；

将芦荟凝胶在搅拌条件下加入步骤（3)制得的混合药粉、步骤（4)所得的筛下 物、鼠尾草精油、天然和透明质酸，充分混合，搅拌均匀后包装、灭菌，即得所述治疗麦 粒肿的乳膏。

太仓希德胶体磨

胶体磨是由电动机通过皮带传动带动转齿（或称为转子）与相配的定齿（或称为定子）作相对的高速旋转，被加工物料通过本身的重量或外部压力（可由泵产生）加压产生向下的螺旋冲击力，透过定、转齿之间的间隙（间隙可调）时受到强大的剪切力、摩擦力、高频振动等物理作用，使物料被有效地乳化、分散和粉碎，达到物料超细粉碎及乳化的效果。

胶体磨的细化作用一般来说要弱于均质机，但它对物料的适应能力较强（如高粘度、大颗粒），所以在很多场合下，它用于均质机的前道或者用于高粘度的场合。在固态物质较多时也常常使用胶体磨进行细化。

XM2000系列胶体磨是专门为胶体溶液生产所设计，特别是那些需要很好乳化和分散效果的胶体生产。XM2000胶体磨的线速度很高，剪切间隙非常小，这样当物料经过的时候，形成的摩擦力就比较剧烈，结果就是通常所说的湿磨。胶体磨的定转子被制成圆椎形，具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下，凹槽在每级都可以改变方向。高质量的表面抛光和结构材料，可以满足不同行业的多种要求。     依肯公司另外一项 的创新，就是锥体磨XMO2000系列，它的设计使其功能在原有的XM2000的基础上又进了一步。由于这项创新，XMD2000能够湿磨和研磨，产生的颗粒粒径甚至比胶体磨XM2000还小。研磨间隙可以无级调节，从而可以得到 的研磨参数。

研磨头的表面涂上了一层极其坚硬的硬质材料，从而使其表面具有非常粗糙的纹理。这种硬质材料是由碳化物、陶瓷等高质量物质构成，并且具有不同的粒径。研磨头处形成了一个具有强烈剪切的区域，可以输送高粘度和低粘度物料，但它的分散效果和 的粒径大小都比胶体磨M的效果 加理想。

研磨分散机是由胶体磨分散机组合而成的高科技产品。

第一级由具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的转子之间距离。在增强的流体湍流下。凹槽在每级口可以改变方向。

第二级由转定子组成。分散头的设计也很好的满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。在线式的定子和转子（乳化头）和批次式机器的工作头设计的不同主要是因为在对输送性的要求方面，特别要引起注意的是：在粗精度、中等精度、细精度和其他一些工作头类型之间的区别不光是转子齿的排列，还有一个很重要的区别是不同工作头的几何学征不一样。狭槽宽度以及其他几何学特征都能改变定子和转子工作头的不同功能。

以下为型号表供参考：

医药乳膏超高速均质胶体磨-双螺旋混合机