芬兰KxS 化学监测仪赫尔纳供应

芬兰KxS 化学监测仪赫尔纳供应，由赫尔纳德国总部直接采购，近30年进口工业品经验，原装产品，支持选型，为您提供一对一好的解决方案：货期稳定，快速报价，价格优，设有8大办事处提供相关售后服务。

公司简介：

KxS Technologies 随时帮助您满足过程监控需求，在每个阶段提供支持。从专家应用咨询和选择正确的解决方案到顺利启动和生命周期支持，我们都能满足您的需求。

芬兰KxS 化学监测仪产品型号：

DCM-10

芬兰KxS 化学监测仪产品介绍：

KxS 原位折射率：半导体工厂化学监测的行业标准。在平衡整个晶圆厂分销链中的半导体化学浓度测量的成本、速度和精度时，原位折射率已成为行业标准。借助KxS Technologies 的好解决方案和专业知识，体验化学监测过程中的精度和效率。

芬兰KxS 化学监测仪监测范围：

KxS 半导体 DCM-10 晶圆厂化学监测仪经过专业设计，可：

Ø 定义传入的清洁化学品浓度和原始 CMP 浆料密度。

Ø 在用于铜、钨和层间电介质平坦化应用的胶体二氧化硅型 CMP 浆料中实现并确保H2O2 浓度和去离子水稀释。

Ø 将浓度测量值与缓冲氧化物蚀刻 (BOE) 等工艺中的晶圆蚀刻速率 (ER) 相关联。

Ø 优化湿法带材旋压工具中蚀刻后残留物去除剂（例如 EKC265™）的镀液寿命。

芬兰KxS 化学监测仪监测种类：

我们的技术能够监测各种关键半导体化学品，包括但不限于：过氧化氢 (H2O2)、氢氧化铵（NH3水）、稀氢氟酸（HF）、磷酸 (H3PO4)、盐酸（HCl）、氢氧化钠 (NaOH)、硫酸（H2SO4）、N-甲基吡咯烷酮（NMP）、四甲基氢氧化铵 (TMAH)、异丙醇 (IPA)、氢氧化钾 (KOH)、硝酸（HNO3）、聚乙二醇 (PEG)、柠檬酸（C6H8O7）、乙酸 (CH3COOH)

芬兰KxS 化学监测仪应用领域：

我们的半导体工厂化学监测仪非常适合各种应用，包括：

Ø SC-1、SC-2 的化学混合校验

Ø 使用 NH3 水混合物进行硬掩模蚀刻

Ø 使用 50% KOH 进行硅湿法蚀刻

Ø 使用 H2SO4:HNO3:H3PO4 混合物进行钛蚀刻

Ø 使用 HF:HNO3 混合物进行背面多晶硅蚀刻

Ø 使用各种混合物进行 CMP 后清洁