制药企业在生产过程中，会使用到一些溶点低、挥发性好的有机溶剂。此类溶剂很可能会随着生产过程挥发出来而导致污染，其排放主要发生在投料、反应、溶剂回收、过滤、离心、烘干、出料等操作单元。

制药废气危害;

在医药化行业中大量使用有机溶剂(如DMF、苯系物、有机胺、乙酸乙酯、二氯甲烷、丙酮、甲醇、乙醇、丁酮、二氯乙烷、醋酸、氯仿等)，挥发形成了具有刺激性气味和恶臭的气体，并具有一定毒害性，长期排放必然恶化区域大气环境质量，并对附近居民的身体产生危害。因此，有效治理制药行业VOCs污染已经成为亟待解决的重要问题。

制药废气成分：

DMF、苯系物、有机胺、乙酸乙酯、二氯甲烷、丙酮、甲醇、乙醇、丁酮、二氯乙烷、醋酸、氯仿等。

制药废气特点：

(1)排放点多, 排放量大, 无组织排放严重。医药化工产品得率低, 溶剂消耗大, 溶剂废气排放点多, 且溶剂废气大多低空无组织排放, 溶剂废气浓度较高。

(2)间歇性排放多。反应过程基本上为间歇反应, 溶剂废气也呈间歇性排放。

(3)排放不稳定。溶剂废气成分复杂, 污染物种类和浓度变化大, 同一套装置在不同时期可能排放不同性质的污染物。

(4)溶剂废气影响范围广。溶剂废气中的VOCs大多具有恶臭性质, 嗅域值低, 易扩散, 影响范围广。

(5)在生产过程中易燃、易爆物质多, 反应过程激烈, 生产事故风险大。

制药废气净化设备：

活性炭吸附设备

当制药废气进入吸附箱后进入活性炭吸附层，由于活性炭吸附表面上存在着未平衡和未饱和的分子引力或化学键力，因此当活性炭吸附剂的表面与气体接触时，就能吸引气体分子，使其浓聚并保持在固体表面，此现象称为吸附。利用活性炭吸附剂表面的吸附能力，使废气与大表面的多孔活性炭吸附剂相接触，废气中的污染物被吸附在活性炭表面上，使其与气体混合物分离，净化后的气体高空排放。

UV光解净化设备

UV光解废气处理技术是指利用高能UV紫外线光束分解空气中的氧分子产生游离氧（即活性氧），因游离氧所携带正负电子不平衡所以需与氧分子结合，进而产生臭氧，臭氧具有很强的氧化性，通过臭氧对有机废气、恶臭气体进行协同光解氧化作用，使有机废气、恶臭气体物质降解转化成低分子化合物、水和二氧化碳。