QMKMLabs量子显微镜QM
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SACHER量子级联激光器QC ECL
面议Edinburgh Instruments皮秒脉冲二极管激光器EPL-485
面议PicoQuant皮秒激光器VisIR-765
面议TEXAS INSTRUMENTS正交调制器TRF3705
面议ID Quantique(IDQ)量子随机数发生器Quantis
面议ID Quantique(IDQ)可见光子计数器ID101-50
面议ID Quantique(IDQ)红外单光子探测器ID221-STD
面议NuCrypt纠缠光子源EPS-1000
面议FAST COMTEC快速光子计数器P7888
面议PicoQuant单光子计数器PicoHarp 300
面议PicoQuant单光子探测器PDM PD-100-CTC-FC
面议LASER QUANTUM二次谐波发生器HarmoniXX SHG
面议无损成像将时间分辨研究带入了纳米长度尺度
的地形表面成像能力(生物,半导体,量子)
一根或多根带有根据您的要求配置的终端站的光束线
自组装材料中纳米级有序衍射
用于评估机械和薄膜特性的结构泵探头,以了解弹性响应,热传递和声子模式
磁性系统的高分辨率,革命性的测量对不同的磁性层高度敏感
KMLabs QM 量子显微镜的光子成像解决方案是一个集成的商业化平台,可实现EUV范围内的超快速光谱和纳米级的高对比度,近地表到地下成像。它可以对成分和结构进行基于实验室的2D高对比度成像,研究图案化薄膜的机械性能,深入了解材料性能,以及自旋电子,ALD,2D,低密度轻质,能源,空间和光伏材料的功能表征。
通过将飞秒激光器的时间敏感性与EUV显微镜和衍射的空间分辨率相结合,QM使得一系列技术可针对研究和工业中的重要挑战进行调整。例如,对于电池,锂边缘附近的EUV吸收提供了微观和光谱上丰富的区域,以了解锂键合。对于半导体,QM提供了的对键合敏感的掩埋和表面纳米形貌的关键细节。QM 量子显微镜可配置,包括激光源(EUV和/或VUV),放大器,根据用户实验量身定制的光束线以及可有效覆盖纳米/量子材料的显微镜/光谱学领域的成像或其他分析工作站。
集成的高性能超快EUV激光源
高分辨率干涉测量表面和亚表面成像
x/y空间分辨率小于20 nm
具有可配置终端站的多用途束线
泵浦探头(XUV泵浦/ IR探头)设计
可扩展至VUV(60-150 nm或8.3至20.7 eV)