一、产品概述：

为获得电子、医药或其他行业用电导率0.055μS/cm（电阻率18.2 MΩ·cm）的理论纯水，在普通混床或EDI净水设备后，通常还装设抛光混床进行精处理。抛光混床设备又称一次性混床一般情况用在工艺末端，用来进一步提高产水水质。抛光混床的树脂是不能再生重复使用的。

二、原理介绍：

抛光混床设备的作用原理与普通混床是相似的，所不同的是抛光混床填料为精度高的抛光树脂。所谓抛光的意思就是树脂的表面处理情况。这种抛光混床用树脂是相对密度很接近的阴树脂和阳树脂的混合物，由于无法将这种树脂的阴、阳树脂分离，不能用酸碱将它们分别再生，所以这种抛光树脂失效后，弃之不用。抛光树脂：人们常说的抛光树脂一般用于超纯水处理系统末端，来保证系统出水水质能够维持用水标准。一般出水水质都能达到18兆欧以上，以及对TOC、SIO2都有一定的控制能力。抛光树脂出厂的离子型态都是H、OH型，装填后及可使用无需再生。一般用于半导体行业。 

三、技术特点：

1、集成电路生产行业工艺用水系统 

2、芯片的生产制造工艺用水系统 

3、多晶硅生产过程中工艺和清洗过程用水 

4、单晶硅生产过程中工艺和清洗过程用水 

5、LED或LCD生产系统工艺用水

四、行业应用：

抛光混床一般设计流速：40-60m/h，抛光混床入口前用PVC的，出口以后用PVDF。另外将抛光混床尽可能安装至接近使用端，因为：1、抛光混床基本不需维护管理，安装在现场和安装在厂务端对管理都不会有影像。2、对提高水质有很大好处。3、可大限度节约PVDF费用。

五、设备图片：