在痕量分析检测的过程中，超纯水系统会在分析结果中产生非常巨大的影响。
 

　　在很早之前，电子半导体材料就已经开始崛起并应用于多个领域，在观察半导体的导电性以及杂质的时候，需要具备电活性，严重的降低了单晶硅片中载有的流子寿命，所以他其中所含的量需在1毫克以下，其测量的杂质含量也更低，半导体行业中我们才认识到痕量元素在高纯度的材料中有着非常重要的问题，从而开辟出了痕量分析的时代。
 

　　在痕量分析的过程中，为了能够达到的量化指标，有几个参数都是较为重要的，实验室中的稀释溶液以及洗涤玻璃器皿等设备的超纯水。最重要的是使用超纯水设备产水的过程中，电阻率会测试出可溶性硅等树脂的效益才是最重要的。

　　在痕量分析中的超纯水设备包括一系列纯化设备，最主要的是预处理滤芯，RO反渗透模块以及后处理的纯化元件以及灭菌消解单元构成。艾柯超纯水设备电导率能够达到18.2MΩ，热源低于0.001EU，其产生的超纯水能够满足痕量分析仪使用流程中的用水需求。
 

　　超纯水设备在能够有效使用并去除硅离子的时候所有的粒子都会显示出较高的截留率。所有在最后的水处理单元中，超纯水通常将使用过特殊设备的棚元素和去除的纯化柱，再将其降低早期的棚穿透。这种技术在结合过程中需要保证其PPT级别或是达到次PPT级别对超纯水设备制取出的超纯水的要求。