日本engis小型高压抛光机EJW-460I-CMP-秋山科技（东莞）有限公司手机版

详细介绍

日本engis小型高压抛光机EJW-460I-CMP

台式和固定式研磨机的设计尺寸非常适合创建从实验室规模到生产规模的高度灵活的抛光工艺。
采用特别适合高压抛光的高刚性机身和开发的水冷主轴，使抛光垫表面温度始终保持恒定，并提供高旋转精度和很少的振动。

设备规格

型号：EJW-460I-CMP

日本engis小型高压抛光机EJW-460I-CMP

机械模型	EJ-300-CMP	EJ-380-CMP	EJW-380I-CMP	EJW-460-CMP
标准平台尺寸（⌀外径×⌀内径mm）	300×100	380x140		460x180
戒指尺寸（⌀外径 x ⌀内径 mm）	143x108	178x140		220x182
粘贴板尺寸（mm）	107	138		180
主轴电机（千瓦）	0.4		1.5	2.2
水冷机构
标准轴数/搭载加压气缸机构	滚轮臂 x 3 轴		回转强制驱动驱动 x 2 轴
电源	三相AC200V 50/60Hz
机身尺寸（宽 x 深 x 高毫米）	550×780×410		800×800×1,900	1,200×1,300×1,900
重量（公斤净重）	95		800	1,000

*EJ-300/380-CMP 为桌面型。