SWC-4000兆声掩模板清洗机提供了可控的化学试剂滴胶能力，这使得颗粒从基片表面的去除能力得以进一步加强。SWC和LSC具备对点试剂滴胶系统，可以zui大程度节省化学试剂的用量的。滴胶系统支持可编程的化学试剂混合能力，提供了可控的化学试剂在整个基片上的分布。

此外，NANO-MASTER的清洗机都还提供了一系列的选配功能。PVA软毛刷提供了机械的方式去除无图案基片上的污点和残胶。DI水臭氧化的选配项提供了有机物的去除，而无须腐蚀性的化学试剂。我们的氢化DI水系统跟兆声能量结合可以达到纳米级的颗粒去除。根据不同的应用，某些选配项将会进一步提高设备去除不想要的颗粒和残留物的能力。

SWC系统能够就地实现热氮或异丙醇甩干。“干进干出" 一步工艺可以在我们的系统中以zui低的投资和购置成本来实现。NANO-MASTER清洗机的工艺处理时间可以在3-5分钟内完成，具体是3分钟还是5分钟取决于基片的尺寸以及附加的清洗配件的使用情况。

SWC-4000兆声掩模板清洗机应用：

• 带图案或不带图案的掩模版和晶圆片
• Ge, GaAs以及InP晶圆片清洗
• CMP处理后的晶圆片清洗
• 晶圆框架上的切粒芯片清洗
• 等离子刻蚀或光刻胶剥离后的清洗
• 带保护膜的分划版清洗
• 掩模版空白部位或接触部位清洗
• X射线及极紫外掩模版清洗
• 光学镜头清洗
• ITO涂覆的显示面板清洗

的特点：

• 支持12"直径的圆片或9"x9"方片
• 独立系统
• 无损兆声,试剂，毛刷清洗及旋转甩干
• 微处理机自动控制
• 化学试剂滴胶单元
• 溶剂与酸分离排废
• 热氮
• 30"D x 26"W 的占地面积

选配项：

• 掩模板或晶圆片夹具
• 臭氧清洗
• PVA软毛刷清洗
• 高压DI清洗
• 氮气离子发生器