徕卡低真空镀膜仪Leica EM ACE200

样品进行扫描电镜观察前，通常需要对其表面镀一层金属膜，以便减少观察时产生的荷电，并增强二次电子或背散射电子信号，获得更好的信噪比。

配置为溅射镀膜机或碳丝蒸发镀膜机后，可以在全自动化系统中获得*可重复的结果，实现了一台EM ACE200具有喷金仪，喷碳仪，蒸镀仪三种功能。如果您的分析需要这两种方法，徕卡显微系统在一台仪器中提供可互换机头的组合仪表。

各个选项，如石英晶体测量、行星旋转、辉光放电和可交换屏蔽共同构成这台低真空镀膜机。

徕卡低真空镀膜仪Leica EM ACE200主要技术参数：

· 可任选离子溅射模式、碳丝蒸发镀碳模式，或者双模式，可选辉光放电（用于网格表面亲水化）

· 设计脉冲式碳丝蒸发方式，可精确控制碳膜厚度

· 可选石英膜厚检测器，精确控制镀膜厚度，精度达0.1nm

· 全自动程序控制，自动完成抽真空，镀膜，放气等过程

· 触摸屏控制，简单方便

· 真空度7×10-3mbar

· 溅射电流：0-150mA可调

· 方形样品仓设计，样品仓尺寸：140mm（宽）×145mm（深）×150mm（高）

· 工作距离调节范围：30mm-100mm

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