拖尾峰色谱柱中碱性化合物峰形拖尾是一种非常普遍、常见的现象，究其原因是由于色谱柱内填料中的残余硅羟基引起的。残余硅羟基是在填料键合的过程中产生，且由于立体效应无法*消除，是硅胶基质色谱柱不可避免的负面影响。残余硅羟基具有弱酸性，在流动相中存在一定成都的电离，形成Si-O–负离子，而带氨基的碱性化合物在流动相中易形成氨基正离子-H3N+、-RH2N+或-R2HN+，正负离子之间的相互吸引力较强，比液相分析中起主要作用的分子间作用力大得多，由于静电吸引力是近程作用力，只有相对较少的样品分子能与残余硅羟基的Si-O–负离子相互作用，因此在色谱分离过程中，少量样品分子保留能力变强，出峰滞后，由此产生了谱图中的峰形拖尾。

拖尾峰色谱柱残余硅羟基是引起样品峰形拖尾的主要原因。液相方法中通常通过调整流动相的pH、在流动相中加入三乙胺、辛烷磺酸钠、四丁基*等试剂用于改善峰形，其原理都是抑制残余硅羟基的Si-O–负离子与氨基正离子的静电作用，从而达到改善峰形的目的。谱宁科技对NT-C18的设计原理亦是如此，通过从填料源头上消除残余硅羟基，阻碍二者的静电作用以改善拖尾，残余硅羟基没有了，自然也就不会与样品分子产生次级保留作用，因而抑制了峰形拖尾，改善峰形、提高柱效。

Pntulips® NT-C18 Plus性能参数