PHI Versaprobe 4 X射线光电子能谱仪
PHI Versaprobe 4 X射线光电子能谱仪

PHI Versaprobe 4 X射线光电子能谱仪

参考价: ¥1500000~¥2000000/件

具体成交价以合同协议为准
2023-11-16 09:11:53
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上海斯迈欧分析仪器有限公司

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产品简介

The PHI 5000 Versaprobe II (VP-II) 能提供高性能的微区光谱,化学成像,二次电子成像,具有离子与电子双中和系统,以及可以在极低电压也可工作的高效能离子枪,UPS适用于表面状态分析,能获得能带结构。

详细介绍

XPS 作为一种重要的表面分析方法,广泛应用于固体材料表面的元素组分和化学态的研究,例如电池材料,催化剂,集成电路,半导体,金属,聚合物,陶瓷和玻璃等,可满足从研发到失效分析的广泛分析需求。VersaPrabe4 采用了全新设计的高灵敏分析器,灵敏度是上一代的2倍,具有更低的检测限,能够实现从微区到大面积的高灵敏度化学分析。微聚焦扫描X射线和SXI影像,通过类似SEM的SXI影响可以作为样品导航,实现精准地定义微区分析位置


PHI Versaprobe 4 X射线光电子能谱仪应用范围:

包括表面的元素与化学态分析(氢和氦除外)。

表面物种的化学状态的识别,包括有机和无机材料,导体和绝缘体。

深入薄膜中的组成元素分布概况,包括半导体、薄膜结构,磁介质薄膜,光学镀膜,装饰涂料,和耐磨涂层。

在必须避免会对电子束技术有破坏性效果时的样品成分分析。

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