日立高新超高分辨率场发射扫描电子显微镜SU9000是专门为电子束敏感样品和需最大300万倍稳定观察的半导体器件，高分辨成像所设计。

新的电子枪和电子光学设计提高了低加速电压性能。

0.4nm / 30kV（SE）

1.2nm / 1kV（SE）

0.34nm / 30kV（STEM）

用改良的高真空性能和电子束稳定性来实现高效率截面观察。

日立高新超高分辨率场发射扫描电子显微镜SU9000采用全新设计的Super E x B能量过滤技术，高效，灵活地收集SE / BSE/ STEM信号。

核心参数
价格区间：500万-700万
电子枪种类：冷场发射
二次电子图象分辨率：0.4nm@30kV,1.2nm@1kV
放大倍数：220~8,000,000
加速电压：0.5~30kV