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主要技术指标: 温度范围:4.2-500 K zui大磁场: 5000 Oe *样品大小:1-2.5 cm zui小克尔转角检出角:0.5 mdeg
主要特点: 1、非常高的灵敏度和稳定性,非常低的噪音,可以探测到低至 10-12 emu 的磁矩。 2、高度聚焦的激光,激光束斑达到 2 μm,可以轻松进行样品的局部或单个结构的性能检测。 3、*的样品定位技术。光路中集成光学显微镜以观测激光束斑的聚焦点和大小;扫描克尔显微镜可以 样品的交流磁化率图像以及反射率图像,帮助用户选择样品的精细测量区域。 4、灵活开放的系统设计。所有的光学器件都安装在一个标准光学平台上,允许用户对光学器件进行调整 足自己的科研需要。 5、任意的磁场波形控制。可以选配多种电磁体:四极磁体、偶极磁体以及螺线管磁体,能够轻松地在样 表面产生各种复杂的磁场。 6、简单易用的操作控制软件 LX Pro。该软件基于微软的 Windows 系统,能够自动完成所有实验以及 验数据的处理。
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