工作条件：工作环境温度5-35℃；湿度≤70%；电源220V/50/60Hz。

主要用途：美国Novascan加热型紫外臭氧清洗机广泛用于纳米技术、化学、生物、光学、电子、半导体及世界各地实验室。主要应用领域：预处理表面图案化工具；清洁硅和氮化硅探针；晶圆清洗；表面氧化及制备；提高表面亲水性；表面清洗；制备薄膜沉积；紫外光固化；表面图案化；清洗光学镜头；粘接硅橡胶；表面消毒；清洁MEMS器件；可处理材料表面：氮化硅、金属、玻璃、云母、石英、陶瓷、聚合物。

系统组成:

1）紫外臭氧清洗机 主机 1台          2) 可变工作台(内置)         1个

3) 微处理器(内置)        1个           4) Thermal UV,温度高达200℃ 1套

 技术参数：

美国Novascan加热型紫外臭氧清洗机是科研级紫外臭氧清洗机，有效清洗尺寸大于12.5x12.5cm的样品；

样品台单元：

1.样品台尺寸大于12.5x12.5cm； 大处理样品高度大于10cm；

2.※样品高度可调，可以合理定位样品高度和位置，位置可锁定。

3.※样品台可加热控温，控温范围：室温-200℃；

4.清洗腔打开方式：上开式；

5.360度样品放置：打开清洗腔上开式，允许360度自由放置样品；

紫外灯单元

UV格栅灯：低压汞格栅灯，灯管寿命大约为5000小时；

UV反射罩：UV反射罩有效范围大于12.5x12.5cm；；

紫外灯波长：185nm和254nm。

典型强度：28-32Mw/cm2 @253.7nm

控制单元

可编程PID数字控制器，可准确设定和控制曝光时间、处理时间、样品高度、样品加热等各项参数；

系统运行过程可执行暂停、终止或重新启动等指令；

倒计时方式数字显示；

内置存储器，记忆可调取上一次处理的参数设置。 

安全装置

安全联锁机制，清洗腔打开系统自动关掉UV灯；

过温保护：用户可设置允许的极限温度，实际温度达到用户设置温度后，系统自动关机。 

※双标准气路：符合标准的进出气接口，可根据用户需要订制，可接入氧气，增加臭氧产量。

可选配臭氧清除机，可在直接在实验室桌面上使用紫外臭氧清洗机，不需要通风橱，操作安全方便。样品处理过后不需等待，可以直接取出，节省时间。

可选配双UV灯系统，可以同时对样品顶部和底部进行处理，操作更方便，效果更好，也更节省时间。