产品应用

V2科研用真空炉是用石墨作发热元件的真空电阻炉，供金属化合物、陶瓷、无机化合物等在真空或保护气氛中烧结制品，也可用于金属材料的热处理。主要应用于电容、钽材等金属及由难熔金属组成的合金材料、陶瓷材料碳化硅及氮化硅的高温烧结、也可以供金属材料在高真空条件下的高温热处理或贵金属材料的除气处理。

配置选项：

  设备结构合理，设计及制造符合相应的国家及行业标准和规范，使用、操作、维修方便简捷，配套产品和元器件具有*水平，可稳定、安全、可靠地满足生产需求。

1. 1、多种测温方式（ K,S,B,WRe 等热电偶，红外测温仪）或组合选择；
2. 2、立式炉膛，上 / 下取料；   3、 高温金属（钼、钨）/石墨材料加热系统选择，方便不同温度或材料工艺需求；

产品特点

1. 均匀的加热、可靠的隔热及测温： 合理的加热结构，优良的材质，保证真空状态下炉温的均匀性，采用品牌测温元件，准确测温。
2. *的自动控制及可靠的安全联锁： 采用计算机实现温度、动作过程全自动控制、
   PLC 实现安全联锁，具有超压、超温水温过高等声光报警及联锁工能。
3. 可配置高生产效率的快冷系统： 配有内循环快速冷却装置，高效换热技术多方向吹向工件，冷却快速均匀。较之外循环快速冷却装置，又具有占地小，面积小，起动温度高，真空抽速快等优点。

V2科研用真空炉技术参数