品牌
厂商性质
所在地
JELIGHT UVO-Cleaner Model 42 紫外臭氧清洗机简介UV+O(原子氧)清洁法是一种光敏氧化过程,其中光抗蚀剂、树脂、人体皮肤油、清洁溶剂残留物、硅油和助熔剂的污染物分子通过短波紫外线辐射的吸收被激发和/或解离。分子氧经184.9nm分解,臭氧经253.7nm分解,同时生成原子氧。253.7nm辐射被大多数碳氢化合物和臭氧吸收。污染物分子的这种激发产物与氧原子反应,形成更简单的挥发性分子,从表面解吸。因此,当两种波长同时存在时,原子氧不断产生,臭氧不断形成和破坏。通过将适当的预清洁样品放置在臭氧产生UV源的5毫米范围内,例如UVO-Cleaner®内部的低压汞蒸汽网格灯,可以在不到一分钟的时间内实现接近原子清洁的表面。此外,该工艺不会损坏MOS栅氧化物的任何敏感器件结构。ufo - cleaner®是去除硅,砷化镓,石英,蓝宝石,玻璃,云母,陶瓷,金属和导电聚酰亚胺水泥中的有机污染物的,的方法。它的建造寿命长,维护成本低,服务。应用程序:•在薄膜沉积/剥离和稳定光刻胶之前清洗衬底•硅片、透镜、反射镜、太阳能电池板、冷轧钢、惯性制导子组件和GaAs晶圆的清洗•焊剂、混合电路和平板LCD的清洗•蚀刻Teflon®,Viton®和其他有机材料•增强GaAs和Si的氧化钝化表面•减少玻璃的放气去除晶圆胶带•提高涂料对塑料的附着力•测试后从晶圆上去除油墨•剥离光刻胶•从光刻板中去除潜在图像•清洗光刻版•在硅片上生长氧化层•在包装/粘合前清洗电路板•增加表面亲水特性•生物科学应用的清洗和灭菌•清洗电子显微镜探针/载玻片或光纤/透镜紫外清洗优点1. 被清洗的表面除了光子,不与任何物体发生接触,有机物经过紫外光照射发生光敏氧化反应后,生成可挥发性气体 (CO2、CO、H2O) 等从表面消散,随着排风系统抽走。2. 表面洁净度高,且不会像溶液清洗时发生二次污染。3. 光清洗的表面不会受到损伤,由于光子的能量相对比氩等离子体溅射或惰性气体离子轰击的能量小,光清洗后的表面不会受到损伤或发生晶体缺陷的现象。4. 光清洗对物体表面微细部位(如孔穴、微细沟槽等)具有有效而的清洗效果。 由于紫外光是纳米短波紫外线,能够射入材料表面的极为细微的部位,发生光敏氧化反应,充分表现出光清洗的性。可选设备:所有装置均配有臭氧杀灭器和鼓风机套件,无需外部排气即可使用该装置。臭氧杀手将解离排气中的微量臭氧,而鼓风机将增加排气流量。单位尺寸可根据客户需求定制。可能需要支付额外费用。设备提供以下电源配置:120V/60Hz 220V/50Hz220V/60Hz100V 50/60Hz**臭氧浓度以及样品与紫外线源之间的距离会极大地影响清洁速率。
Outer DimensionsLength Width Height Exhaust Port Media Inlet Port (2x)350 mm 220 mm 225 mm 50.8 mm 9.5 mm
Tray DimensionsWidth Length Height (Adjustment Range)165 mm 165 mm] 6 mm ~ 38 mm
Grid LampType Average Intensity Distance Measured Away From LampLow Pressure Mercury (Hg) Vapor 28 ~ 32 mW/cm² @ 253.7 nm .12” ~ .20” [3 ~ 5 mm]
Electrical CharacteristicsOutput PowerVoltage Current6000 Vpeak-peak 30 mA
Available Input Power RequirementsModel Voltage Frequency Current42 120 VAC 60 Hz 2.0 A42-220 220 VAC 50 Hz 3.0 A42-220-60 220 VAC 60 Hz 2.0 A42-100 100 VAC 50/60 Hz 2.0 A42 W/ ELAPSE TIMER 120 VAC, 220VAC 60 Hz, 50Hz 2.0 A, 3.0A
与JELIGHT UVO-Cleaner Model 42 紫外臭氧清洗机相关的实验现场
- 空气源和氧气源臭氧发生器出口浓度对比
- M1000臭氧发生器如何获得3mg/l臭氧浓度
- UV臭氧发生器如何输出0.8ppm的稳定臭氧浓
- 美国UVP SOG-2型与同林UV-S-CN型臭氧发生器稳
- 多通道低浓度紫外臭氧发生器浓度测试
- 如何获得2ppm臭氧浓度
- 意大利B&C水中臭氧检测仪使用介绍
- longevity EXT-C高精度臭氧发生器
- 100g/h实验用臭氧发生器安装现场
- 高浓度臭氧发生器试机现场
- 多柱臭氧催化氧化实验装置
- 清华大学臭氧催化氧化深度处理废水试验
- 北京化工大学臭氧催化氧化实验
- 臭氧+UV催化氧化实验
- 煤科院臭氧+光催化氧化反应器
- 北京大学环境科学与工程学院COD实验
Q:超声臭氧强化处理高浓度有机废水研究
A:超声臭氧强化处理高浓度有机废水研究 本文主要研究了超声臭氧处理高浓度有机废水的可行性;
Q:高效臭氧溶气装置介绍
A:高效臭氧溶气装置 一) 、臭氧溶解效率 臭氧溶解效率(O3)=臭氧溶解量/臭氧投加量,是影响;
Q:臭氧发生器进气(空气或氧气)流量测量单位
A:臭氧发生器进气(空气或氧气)流量测量单位 LPM=升每分钟 通过臭氧发生器的原料气流量的计量测;
Q:臭氧浓度单位有哪些
A:臭氧浓度单位有哪些 臭氧浓度单位有哪些,有什么区别呢? wt% =重量百分比 指在给定体积中臭;
Q:高级氧化技术应用范围
A:高级氧化技术应用范围 现代工业的发展,导致进入水体中的有机物数量和种类急剧增加,水体;
Q:OXYCYCLE™氧气回收装置介绍
A:OXYCYCLE氧气回收装置介绍 使臭氧生产达到新的效率水平。 当你能回收氧气时,为什么要浪费;
Q:废水臭氧氧化处理法用途和优缺点
A:臭氧氧化法主要用于: ①水的消毒:臭氧是一种广谱速效杀菌剂,对各种致病菌及抵抗力较强;
Q:臭氧氧化法发生器浓度、产量、电耗测量
A:本标准规定了臭氧氧化法发生器的臭氧浓度,产量和电耗的测定及计算方法。并且适用于以电;
Q:评价臭氧氧化对的效价削减效果研究
A:评价臭氧氧化对的效价削减效果研究 中国是世界上大的抗生素生产国,是、四;
Q:臭氧氧化印染工业园废水影响因素研究
A:臭氧氧化印染工业园废水影响因素研究 印染废水具有污染物成分复杂、高色度、高浊度、高;
Q:不同晶体结构二氧化锰上气态臭氧的催化分解
A:臭氧是一种普遍存在的污染物,二氧化锰(MnO2)被广泛用于臭氧的分解。然而,二氧化锰结构对;
Q:臭氧与过氧化钙(O3/CaO2)降解甲基红染料废水研究
A:纺织品印染废水排放量大,组成复杂,污染物浓度高,其中含有大量结构复杂的染料和化合物[1].色;
Q:影响臭氧水浸泡法去除农残效果的因素
A:影响臭氧水浸泡法去除农残效果的因素 4.2.1 臭氧水浓度 一般来说臭氧水浓度增大可以增大农药;
Q:多相臭氧催化氧化对某染料废水生化出水效果实验研究
A:多相臭氧催化氧化对某染料废水生化出水效果实验研究 染料废水成分复杂,含多种难降解有机物;
Q:臭氧与多种烟气污染物的反应动力学机理研究
A:臭氧与多种烟气污染物的反应动力学机理研究 邵嘉铭1,王智化1,林法伟2,唐海荣1,许岩韦;
Q:臭氧投加速率对苯胺降解的影响
A:臭氧投加速率对苯胺降解的影响 废水中含有苯胺,且其质量浓度为25,mg/L 左右,为保证其排放;