日本住友SGX系列半导体用臭氧水生产设备
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住友的洁净臭氧水制造设备是将洁净臭氧发生器产生的臭氧气体溶解于超纯水中，生成臭氧水的装置。限度地抑制微粒子和金属污染的溶出，在半导体、液晶等电子设备材料的制造过程中，用于去除有机物、表面改性等用途，得到众多客户的高度评价评价。。应用领域半导体各种晶圆FPD（LTPS、HTPS、TFT、彩色滤光片、OLED）光罩硬盘SGX-1G21SNC规格
臭氧水浓度：5至100ppm臭氧水流量：1 至 120 升/分钟臭氧水供给压力：max.0.25MPa原料气：氧气，（二氧化碳作为浓度衰减的对策）电源：AC200V 三相
SGX-1B11SN规格
臭氧水浓度 5至150ppm臭氧水流量 1 至 90 升/分钟原料气 氧气，（二氧化碳作为浓度衰减的对策）电源 AC200V 三相
SGXG规格
臭氧水浓度：5-30ppm臭氧水流量：1 至 60 升/分钟原料气：氧气（二氧化碳作为浓度衰减的对策）电源：AC200V 三相特征能够处理高浓度和大流量占地面积小，结构紧凑低廉的运行成本（低功耗、更换部件少、放电电池寿命长）高耐压、长寿命的高可靠性放电电池快速启动和出色的集中响应能力通过连接臭氧浓度计（反馈控制）实现出色的浓度稳定性CE/NRTL 认证，符合 SEMI 标准停机时无需维护也可提供不含硝酸的臭氧水
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A：高级氧化技术应用范围 现代工业的发展，导致进入水体中的有机物数量和种类急剧增加，水体；
Q：OXYCYCLE™氧气回收装置介绍
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A：评价臭氧氧化对的效价削减效果研究 中国是世界上大的抗生素生产国，是、四；
Q：臭氧氧化印染工业园废水影响因素研究
A：臭氧氧化印染工业园废水影响因素研究 印染废水具有污染物成分复杂、高色度、高浊度、高；
Q：不同晶体结构二氧化锰上气态臭氧的催化分解
A：臭氧是一种普遍存在的污染物，二氧化锰(MnO2)被广泛用于臭氧的分解。然而，二氧化锰结构对；
Q：臭氧与过氧化钙(O3/CaO2)降解甲基红染料废水研究
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