等离子清洗机处理无损伤、无污染，无废水，符合环保要求，工艺稳定安全，等离子体清洗机不分处理对象的基材类型，均可进行处理，对玻璃、金属、半导体、氧化物和大多数高分子材料，如聚丙烯、聚脂、聚酰亚胺、聚氯乙烷、环氧、甚至聚四氟乙烯等都能很好地处理，并可实现整体和局部以及复杂结构的清洗。 等离子体的”活性”组分包括：离子、电子、活性基团、激发态的核素（亚稳态）、光子等。等离子体表面处理机器就是通过利用这些活性组分的性质来处理样品表面，从而实现清洁、改性、光刻胶灰化等目的，通过等离子清洗机处理使等离子体与材料表面发生化学反应，形成羰基、羧基、羟基等亲水基团，从而增加表面能量，改变表面的化学特性，提高材料粘接、亲水、附着等特性。

等离子清洗机增强粘接力 浸润性 去胶设备在清洁材料表面的同时，还能对材料表面进行活化，有利于材料进行下一道的涂覆粘接等工艺。

等离子体清洗机表面活化是物体经过等离子体清洗机处理之后表面能增强、提高粘合度，附着力；材料表面涂层、清洗、蚀刻、活化一台等离子清洗机轻松搞定

等离子清洗机增强粘接力 浸润性 去胶设备用于刻蚀、脱胶、涂层、灰度、等离子体表面处理。等离子清洗机提高材料表面的润湿性，从而提高材料的涂层等性能，增强材料的附着力、粘结力和去除有机污染物。等离子表面活化机可以处理基本材料在印刷或粘着活化、改性、接枝、粗化或清洗前等功能

等离子清洗机增强粘接力 浸润性 去胶设备可依客户需求定制不同规格的清洗机设备。

等离子清洗机去除材料表面物、颗粒、脏污物、氧化物、有机物、去除光刻胶、电路板去胶，增加洁净度、提升亲水性、增强粘贴力

ICP硅刻蚀、CCP介质刻蚀、金属刻蚀，等离子清洗机实现各向异性刻蚀，保证细小图形转移后的保真性