全自动金相试样磨抛机双磨抛盘, 同时支持：产品特点

 单个样品独立加载

 样品盘中心加载，一次性固定六个样品，完成全部研磨抛光过程，保证磨抛出各个样品的完整平面

 PLC独立控制磨抛盘和样品盘：转速、磨抛时间、转动方向、水阀关闭等全部磨抛参数，并自动保存、方便调用；

 触摸屏界面：磨抛参数设定方便，状态显示直观，操作简单；

 磨抛盘和样品盘转动均无级变速，旋转方向可切换。

 PLC控制水和磨料滴入器的通断。

 全自动金相试样磨抛机工作模式：

1)   自动模式：

根据样品材料或使用者的习惯，可设置和调用：30套工艺（流程），每套工艺可含10步工序参数（每个工序对于某一步磨或抛工序工序参数：磨盘和磨头转动速度、磨抛时间……）

2)   手动模式：

根据每一步磨抛工序，可设置和调用30种工序参数：磨盘和磨头转动速度、磨抛时间、水通断……

3)   设置模式:

对设备的某一功能，单独进行操作

 轻松更换磁性防粘盘，就能完成各种试样的粗、精磨及粗、精抛光等所有工序, 一盘等效于N个盘。

 中/英文界面切换

 精度高，运行平稳，噪音低。

 可选配滴液器。

技术参数：