实验室高温CVD真空管式炉

实验室高温CVD真空管式炉

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20 1

具体成交价以合同协议为准
2020-07-16 18:28:26
396
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出口压力:其他;燃料:其他;结构形式:其他;
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其他
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其他
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其他
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产品简介

实验室高温CVD真空管式炉广泛应用于冶金,陶瓷,玻璃,机械,分析测试,半导体,科学研究等领域。

详细介绍

PT-T1200X-TP实验室高温CVD真空管式炉是CE认证的管式炉,带有石英管(尺寸可选)和铰接式法兰。这样的配置允许容易的样品加载/卸载。30段温度控制器安装有K型热电偶。基于微处理器的自整定PID提供了出色的控制,没有超调和+/- 1°C的精度。这是在各种气体气氛下进行样品退火,扩散和烧结的出色熔炉,高可达1200°C。

实验室高温CVD真空管式炉适用范围:

       该款高温CVD金刚石真空管炉广泛应用于冶金,陶瓷,玻璃,机械,分析测试,半导体,科学研究等领域。

注:管式炉可按用户需求选配合适的款型

可选配件:液晶触摸控制仪
详细参数:

模型

PT-T1200X-TP

PT-T1400X-TP

PT-T1600X-TP

高 温度

1200

1400

1600

工作温度

1100

1300

1550

加热元件

电阻丝

碳化硅

MoSi2

热电偶

K型

S型

B型

管材

高纯石英

氧化铝

氧化铝

箱体材质

陶瓷纤维

加热速度

0-20C /分钟

温度控制精度

+/- 1摄氏度

温度均匀度

+/- 5摄氏度

标准股

管尺寸(mm)

加热区长度(mm)

管尺寸(mm)

加热区长度(mm)

30

300

80

300

40

300

80

440

40

440

100

440

60

300

120

440

60

440

100

440

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