UB5000硅片检测显微镜

UB5000硅片检测显微镜UB5000硅片检测显微镜

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2024-08-03 09:39:56
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产品简介

硅片、电路基板、FPD、精密模具工业显微镜广泛应用于半导体,电子工业进行晶体,集成电路的检验和科学研究

详细介绍

大平台工业显微镜配有大移动范围的载物台、落射照明器、平场无限远长工作距离明暗场物镜、大视野目镜、图像清晰,衬度好。是针对半导体工业、硅片制造业、电子信息产业、治金工业开发的,作为高级工业显微镜使用。可进行明暗场观察、落射偏光、DIC观察,广泛用于工厂、研究机构、高等院校对硅片、电路基板、FPD、精密模具的检测分析。

技术规格
观察头
30°铰链式三目(50mm-75mm)
目镜
WF10×/25mm
WF10×/20mm,带0.1mm十字分划板
转换器
带DIC插孔明暗场五孔转换器
物镜
平场无限远长工作 距离明暗场物镜:5×/0.1B.D/W.D.29.4mm
10×/0.25B.D/W.D.16mm
20×/0.40B.D/W.D.10.6mm
40×/0.60B.D/W.D.5.4mm
平台
双层移动平台
平台尺寸: 350mm×310mm
移动范围:250mm×250mm
滤色片
插板式滤色片(绿、蓝、中性)
调焦
粗、微动同轴调焦,采用齿轮齿条传动机构 微动格值0.002mm
光源
落射照明:带孔径光栏和视场光栏,卤素灯12V/100W,AC85V-230V亮度可调节
偏光装置
检偏镜可360度转动,起偏镜、检偏镜均可移出光路
检测工具
0.01mm测微尺
可供附件
目镜:WF15×/17mm、WF20×/12.5mm
300万、500万、900万、1400万像素CMOS芯片数字摄像头
平场无限远长工作距离明暗场物镜:50×/0.55B.D/W.D.5.1mm、
80×/0.75B.D/W.D.4mm、100×/0.80B.D/W.D.3mm
二维测量软件
专业金相图像分析软件
DIC(10×、20×、40×、100×)
摄影装置及CCD接口0.5×、0.57×、0.75×
压平机
彩色CCD 芯片 300万,500万,800万像素摄像头
UB5000 特点说明
1. 采用了UIS高分辨率、长工作距离无限光路校正系统的物镜成像技术。
2. 拓展了物镜的复用技术,无限远物镜与所有观察法相兼容包括明暗视野法、偏光法,并在每一
观察法中均提供高清晰的图像质量。
3. 采用非球面Kohler照明,增加观察亮度。
4. WF10X(Φ25)超大视野目镜,长工作距离明暗场金相物镜。
5. 可插DIC微分干涉装置的转换器。
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