主真空室

方形前开门结构，尺寸L×W×H:400×400×450mm

进样室(选配)

开门结构，尺寸约为ø200 X 300mm

真空系统配置

主真空室

复合分子泵、机械泵、气动闸板阀

进样室

机械泵、分子泵、阀门

极限压力

主真空室

≤6. 67x10-5pa(经烘烤除气后）

进样室

≤6.67X10-4 pa(经烘烤除气后）

恢复真空时间

主真空室

30分钟可达到6. 6x10-4 pa(系统短时间暴露大气并充干燥氮气开始抽气）

进样室

30分钟可达到6. 6x10-3 Pa (系统短时间暴露大气并充干燥氮气开始抽气）

磁控靶组件

2-4套永磁靶；靶材尺寸ø60mm (其中一个可溅射磁性材料）；各靶射频溅射和直流溅射兼容；靶内水冷；三个靶可共同折向上面的样品中心；靶与样品距离90~110mm可调；每个靶配气动挡板。

基片加热台

样品尺寸

ø3英寸

运动方式

基片可连续回转，转速0-30rpm

加热

基片加热温度600℃±1℃

挡板形式

进口SMC转角气缸控制

工艺气路系统

质量流量控制器2-4路

*可选部件

进样室磁控靶组件

永磁靶，靶材尺寸ø 60mm。

膜厚仪

国产/进口

*气泵

无油润滑

计算机控制系统

自动控制、工艺读入、参数设置、实时监控等功能

设备占地面积

主机

1800X1200mm2