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面议主要特点
VT系列立式真空管式炉采用硅钼棒进行加热，专门设计针对于材料在真空或气氛保护环境下对
材料进行烧结，Z高温度可以达1700℃，采用双层壳体结构，使得壳体表面温度小于65，高纯度氧
化铝纤维作为炉膛保温材料，主要应用领域如碳纳米管生长，陶瓷烧结退火，单晶生长等。
技术参数
额定功率 | KW | 4 |
额定电压 | V | AC 208-240V 50/60 Hz |
Z高温度 | ℃ | 1700（1 hour） |
持续工作温度 | ℃ | 500-1600℃ |
推荐升温速率 | ℃/min | ≤10℃/min |
炉管尺寸 | mm | 高纯度刚玉管（ø60、 ø80、ø100）X1000mm可选 |
加热区长度 | mm | 300 |
恒温区长度 | mm | 150 |
控温方式 | 模糊PID控制和自整定调节，智能化30段可编程控制，具有超温和断偶报警功能 | |
触摸屏尺寸 | 7寸 | |
控温精度 | ℃ | ±1 |
加热元件 | 4根U型 硅钼加热棒（国产和进口两种可选，具体请致电销售部） | |
法兰 | 卡箍法兰或折页法兰也可按要求定制 | |
标准配置 | 高纯刚玉管1根，氧化铝管堵2只，不锈钢密封法兰1套，硅胶密封圈2套，高温手套1副，坩埚钩1支 | |
认证标准 | CE | |
尺寸（长*宽*高） | mm | 550*470*1755 |
净重 | Kg | 155 |
