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CS-153N是一款高精度的化学药液浓度计,适用于半导体制造中湿法蚀刻制程的严苛要求。蚀刻制程使用FPM药液刻蚀二氧化硅和去除晶圆表面的颗粒。CS-153可持续监测FPM药液(HF/H2O2/H2O)中各个成分,在每一次药液需要替换或补充时向用户发出信号。因此可使FPM药液的浓度保持在一个适当的范围中并可避免不必要的药液替代
实现了以大约2秒为监测周期(*)的高速响应。支持向批次式和单槽式清洗装置定时反馈浓度信息。
*不包含药液的置换时间、冷却时间
*和本公司产品CS-327系列进行比较
通过浓度计的信号输出,进行HF/HNO3溶液的补给控制,从而实现高再现性的清洗。减少清洗工艺中的批次不良,从而推进产量的全面提高。
用户只需引入HF/HNO3溶液即可。监测是全自动方式,因此开始监测后不需要进行任何控制。另外,由于参照光谱测量时使用的是空气,所以不需要用水。
在脱泡槽中分离气泡,在监测过程中进一步利用电磁阀把气泡混入监测单元内的发生次数抑制在限度。
电源采用DC24V低压电,提高了安全性以避免触电事故的发生。并且,由于内置漏水传感器,在发生漏水时可以切断HF/HNO3溶液的供应等,采取紧急措施。