椭偏仪

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2022-11-10 15:29:56
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椭偏仪

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椭偏仪

SpecEL-2000是一款操作便捷的台式光谱椭偏仪,主要用于测量平整和半透明的样品,例如硅晶圆片和玻璃片等薄膜。

椭圆偏光技术是一种非接触式、非破坏性,以光学技术测量表面薄膜特性的方法。其检测原理是:当一束偏振光经过物体表面或界面时,其偏振极化状态会被改变。而椭偏仪就是通过探测样品表面的反射光,来测量此改变(即反射光和入射光的振幅及相位的改变量),以决定表面特性薄膜的光学常数(nk值)及膜厚。

SpecEL-2000测试系统主要包括:宽带光源、高性能线阵CCD光谱仪、导光器件、起偏器、样品测试台、检偏器、光学增强元件及测量分析软件。

SpecEL-2000适合于探测薄膜厚度、光学常数以及材料微结构特性,通常应用于有薄膜存在的地方,其应用包括光学镀膜和保护膜、聚合物、光刻材料、平面平板显示、计算机读写头以及半导体集成电路制造的研究开发。另外,在生物、医学、化学、电化学及材料研究等方面有着广泛的应用。

SpecEL椭偏仪基本性能:

基本型号:SpecEI-2000-UV/VIS/NIR & SpecEI-2000-VIS/NIR
光谱范围:290-1050nm (UV/VIS/NR) & 400-1000nm (VIS/NIR)
测量范围:1nm~10μm
膜厚分辨率:0.1nm
测量时间:7~13s
测量膜层:32
光束直径:300×1200μm (Smaller spots available)
入射角度:700 (other angles available)
样品调整:高度±1mm;倾斜±10
测量指标:光学常数(n&k)及膜厚
快速响应:在线测量
基底材料:硅晶片和玻璃片等
数学模型:折射率/谐振子/柯西/塞耳迈耶尔/麦克斯韦-加尼特等数学模型
应用场合:光学镀膜/保护膜/聚合物/光刻材料/平面平板显示/导体集成电路

SpecEL椭偏仪应用软件
·
厚度测量/n&k值测量/ psi & delta测量
·7s
全光谱数据记录
·
多种拟合模型选择
·Mapping
绘图功能 (150×150mm)

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