大型单晶硅清洗用超纯水设备概述

　　大型单晶硅清洗用超纯水设备出水电阻可达15.0-17.0M&.CM。不用更换树脂，EDI模块可以稳定使用3-5年，降低耗材成本60%，多重安全保护，机箱精巧，外形美观。全电脑控制，工作状态显示，全自动运转。双路在线式水质监测系统，液晶数字显示。高纯度水对许多工商业工程非常重要，比如：半导体制造业和制药业。以前这些工业用的纯净水是用离子交换获得的。 然而，膜系统和膜处理过程作为预处理过程或离子交换系统的替代品越来越流行。如电除盐过程(EDI)之类的膜系统可以很干净地去除矿物质并可以连续工作。

　　大型单晶硅清洗用超纯水设备特点

　　1、整体化程度高，易于扩展，增加膜数量即可增加处理量。

　　2、自动化程度高，遇故障立即自停，具有自动保护功能。

　　3、膜组件为复合膜卷制而成，表现出更高的溶质分离率和透过速率。

　　4、能耗低，水利用率高，运行成本低。

　　5、结构合理，占地面积少。

　　6、*的膜保护系统，在设备关机，淡化水可自动将膜面污染物冲洗干净，延长膜寿命。

　　7、系统无易损部件， 无须大量维修，运行长期有效。

　　8、设备设计有膜清洗系统用阻垢系统。

　　大型单晶硅清洗用超纯水设备主要用途

　　电子工业用水：集成电路、硅晶片、显示管等电子元器件冲洗水。

　　制药行业用水：制药行业用水 　大输液、针剂、片剂、生化制品、设备清洗等。

　　化工行业工艺用水：化工循环水、化工产品制造等。

　　电力行业：锅炉补给水 　火力发电锅炉、厂矿中低压锅炉动力系统等。

　　食品工业用水：饮用纯净水、饮料、啤酒、白酒、保健品等。

　　海水、苦咸水淡化：海岛、舰船、海上钻井平台、苦咸水地区等。

　　饮用纯净水：房产物业、社区、企事业单位等。

　　超声波清洗用水：电脑配件、特种材料、精密机械等要求高清洁度的超声波清洗线。

　　电镀行业用水：清洗工件用水，槽液用水。

　　其它工艺用水：汽车、家电涂装、镀膜玻璃、化装品、精细化学品等。

　　大型单晶硅清洗用超纯水设备工艺流程