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CHY-V1250S实验室1200度mini型立式真空管式炉
型号：CHY-V1250S用途：用于实验室粉体烧结，或者特殊样品立式烧结规格：工作温度：1200度； 炉管尺寸：50*600mm特点：PID程序控温，立式结构, 高精度控温 参考价面议 -
CHY-VJ1220A1200℃实验室高温井式气氛炉立式真空管式炉
型号：CHY-VJ1220A用途：此款井式气氛炉集控制系统与炉膛为一体。其炉膛保温材料采用整体真空吸附成型，程控镶嵌进口电阻丝，超大口径的石英炉腔和真空水冷密封法兰系统，可以在流动气氛和真空状态下快速加热样品，能很好的替代真空箱式炉。炉子上部配有泄压阀，很好了保证在通气氛使用情况下的安全。规格：Φ180*210特点：可抽真空，通气氛，大容积 参考价面议 -
CHY-V17161700℃真空箱式真空气氛炉 CHY-V1716
型号：CHY-V1716用途：广泛应用于硬质合金、陶瓷、粉末冶金材料在低真空、还原性、保护性气氛下的热处理；也可以用于高速钢、合金模具、软磁合金等材料的淬火、退火以及钎焊等多种在真空下需热处理的工艺规格：腔体尺寸：160*160*160mm，真空气密性10Pa特点：可抽真空，通气氛，大容积 参考价面议 -
MG15121500℃ 1.7L箱式气氛炉
型号：MG1512用途：可以在气氛保护下进行各种热处理实验。主要用于在保护气氛和还原气氛下进行样品的热处理，如在氮气或氩气保护气氛环境下热处理或者通入氮氢混合气体进行还原热处理等。规格：120*120*120mm特点： 参考价面议 -
MG12301200℃大容量箱式气氛炉
型号：MG1230用途：主要用于在保护气氛和还原气氛下进行样品的热处理，如在氮气或氩气保护气氛环境下热处理或者通入氮氢混合气体进行还原热处理等。规格：300*300*400mm特点：炉膛容积大，可烧结更多的样品 参考价面议 -
MG15301500℃大容量箱式气氛炉
型号：MG1530用途：主要用于在保护气氛和还原气氛下进行样品的热处理，如在氮气或氩气保护气氛环境下热处理或者通入氮氢混合气体进行还原热处理等。应用行业有光纤通讯材料的烧制、粉末冶金退火处理、荧光粉等稀土的预处理。规格：300*300*400mm特点：采用硅碳棒两面加热，附有一路浮子流量计进气系统，和正压显示器。良好的散热系统使得该设备在900℃以下无需水冷，节省了用水的麻烦和处理样品的成本 参考价面议 -
H12101200℃混合炉
型号：H1210用途：既可以作为真空气氛炉使用，也可以作为普通马弗炉使用规格：100*100*100mm特点：100*100*100mm的小炉膛，因而温度控制更加容易，温场热分布更均匀 参考价面议 -
M1200X新款1200℃箱式炉
型号：M1200X用途：规格：特点：1、此款产品在原有基础上增加了新的设计，其中推拉门，使操作更方便； 2、放料板可选配石英材质和不锈钢材质； 参考价面议 -
PE-12100C成仪PECVD系统
型号：PE-12100C用途：使传统的化学气象沉积（CVD）反应温度降低，在普通CVD装置的前端加入RF射频感应装置将反应气体电离，形成等离子体，利用等离子体的活性来促进反应.规格：特点： 参考价面议 -
RTP1100-MRTP多功能快速退火炉
型号：RTP1100-M用途：真正的极速升温和极速降温规格：特点： 参考价面议 -
钴铬合金烧结炉
型号：用途：规格：特点： 参考价面议 -
RTP1100快速退火炉
型号：RTP1100用途：极速退火与镀膜规格：Φ100*200特点：快速升温快速降温 参考价面议