DHDM系列直流磁控溅射镀膜装置DH450-ZZK真空镀膜机/DH450-ZZF真空镀膜机/DH-500JJC多靶磁控溅射镀膜机/DH-900DZX电弧/磁控溅射箱式镀膜机/DH-500ZZS箱...
品牌
其他厂商性质
西安市所在地
| | DHDM-1 | DHDM-2 | DHDM-3 |
| 沉积室 | 玻璃真空室 | 不锈钢真空室 | |
| 溅射电源 | 直流200～700V可调，功率0～1000W可调 | ||
| 磁控靶 | Φ50mm平面靶 | ||
| 真空系统 | 机械泵 | 机械泵+扩散泵 | 机械泵+分子泵 |
| 极限真空 | 6.7×10-1Pa | 5×10-4Pa | 8×10-5Pa |
| 恢复真空 | 2Pa | 5×10-3Pa | 8×10-4Pa |
| 进气系统 | 二路转子流量计或二路质量流量计 | ||
| 衬底温度 | 室温至300℃可调可控； | ||
| 真空测量 | 数显电阻真空计 | 数显复合真空计 | |
| DH450-ZZK 真空镀膜机 | 本装置适用于在塑胶、玻璃、陶瓷等材质的工件上镀制金属膜、装饰膜、硬质膜、金刚膜、或光学膜等科研与生产工作。 主要技术参数 1、真空室：镀膜室尺寸：Φ450×540mm；结构：箱式前开门结构，后置抽气系统，手动推拉式；观察窗：镀膜室门上配有Φ100mm观察窗； 2、蒸发组件：蒸发电源（3KW/10V）2组；水冷蒸发电极2对； 3、控制方式：手动按键式； 4、旋转夹具：球面拱形夹具，0~30r/min无级可调（可根据要求定制）； 5、工件烘烤：室温～300℃（PID控制）； 6、真空测量：数显复合真空计； 7、供电电源：三相AC380V，50Hz； 8、选配件：石英晶振膜厚测控仪、高压离子轰击； 9、用户需自备或另购冷却水系统。 | 1、真空系统：机械泵（2XZ-8B机械泵）+扩散泵（K-200不锈钢扩散泵）； 2、极限真空：2×10-4Pa； 3、恢复真空：5×10-3 Pa（小于25min）。 |
| DH450-ZZF 真空镀膜机 | 1、真空系统：机械泵（2ZX-8机械泵）+分子泵（FF160/620分子泵）； 2、极限真空：6.7×10-5Pa； 3、恢复真空：5×10-4Pa（小于45min）。 | |
| DH-500JJC 多靶磁控溅射镀膜机 | 该设备是单室多靶磁控溅射镀膜设备，主要用磁控溅射或反应溅射的方法制备金属膜，半导体膜，陶瓷膜，介质复合膜及多层膜和其它化学反应膜及掺杂膜等。 适用于镀制各种单层膜，多层膜及掺杂膜系。 主要技术参数 1、真空室内腔尺寸：Φ500×600（mm）为圆筒式电动上掀盖全不锈钢结构； 2、极限真空度：≤5×10-5 Pa(系统经烘烤)； 3、恢复真空：从大气抽至6.4×10-4 Pa ≤（40分钟）； 4、观察窗：规格Φ100mm带护目遮板 数量：2个； 5、溅射靶组件：3组Φ2英寸磁控靶，基片台和磁控靶可调距离：110～130mm可调，并有调位距离指示；三套靶电动挡板，每个靶前面配有一套靶挡板，电动控制可遮挡三个工件位置；靶在下，基片在上，向上溅射成膜；射频溅射与直流溅射兼容，靶内有水冷； 6、样品转台：基片尺寸45×60mm；三个可以放置基片位置，一个基片台可以加热；加热温度可达到500℃；基片转盘能够0～360°来回转动。拆掉加热装置测量线和电源线后能够实现连续回转；基片可以加负偏压，在0～-200V连续可调； 7、真空系统：机械泵+分子泵准无油真空系统； 8、工作气路：二路质量流量控制器控制进气； 9、溅射电源：直流电源 1000W 1台；射频电源 500W（13.56MHz）2台； 10、供电电源：三相AC380V，50Hz； 11、真空测量：数显复合真空计； 12、配有膜厚控制系统； 13、选购件：负偏压电源、循环水机组等。 | |
| 产品名称/型号 | 产品配置/技术参数性能 | |
| DH-900DZX 电弧/磁控溅射箱式镀膜机 | PVD 涂层技术不仅可提供炫耀的色彩涂层，还具有超硬度、耐磨损、耐腐蚀、抗划痕和应力碎裂，而且在日常磨损条件下可保持耀眼的光泽，是应用于装饰工业的主流技术。PVD 涂层技术包括电弧离子镀、磁控溅射镀（直流、脉冲、中频和非平衡）以及复合镀膜。 可获得颜色包括： 1. TiN（ 仿金色）； 2. ZrHfN、TiZrN（ 仿金色）； 3. TiC 、TiNC（亮灰色、枪黑色）； 4. TiNC、TiAlN（ 玫瑰金、咖啡色）； 5. TiO、 TiAlN（ 宝石兰色、彩虹色）； 6. ZrN（ 黄铜色、锆金色）； 7. ZrO（ 仿不锈钢色）； 8. Ni、Cr、AL、Au、Ag（ 金、银、镍、铬、铝等单色金属膜）。 主要技术参数 1、真空腔室尺寸：Φ900×H1000mm；可镀膜空间：Φ600×H700mm； 2、极限真空：5.0×10-4Pa； 3、工件架：8根公自转杆+4根公转杆，公/自转0-20RPM，可加热烘烤至500℃； 4、矩形靶尺寸：650×150mm 矩形，非平衡磁控溅射靶，对靶结构； 5、溅射电源：中频脉冲恒流源，电压可调。频率 40KHz，功率 20KW； 6、弧源：φ100mm弧源； 7、电弧电源：250A 逆变弧电源，数量：六台； 8、供电电源：三相AC380V，50Hz；整机功率30KW； 9、控制方式：PLC+PC自动； 10、强制水冷保护系统。 | |
| DH-500ZZS 箱式电子束 蒸发镀膜机 | 本箱式电子束蒸发镀膜机由我公司和材料物理重点实验室联合研制。 适用于制备导电薄膜，半导体薄膜、铁电薄膜、光学薄膜，高性能薄膜研究及新材料科学研究工作。其主要特点为功能强、镀膜质量稳定、重复性好、操作简便。 主要技术参数 1、镀膜室体积：500×500×600mm，特殊规格可定做； 2、极限真空：6.7×10-5 Pa，恢复真空：从大气抽至6.7×10-4 Pa ≤（40分钟）； 3、抽气系统：直联机械泵+复合分子泵组成；真空测量：复合数显真空计； 4、蒸发源：电子束蒸发源：270°E型电子枪及高压电源，电子枪功率0～6KW可调；电阻蒸发源：铜水冷电极4根，功率：3kW/10V两组； 5、结构形式：立式前开门后置抽气系统； 6、工件烘烤温度：室温～500℃可控可调（PID控温）； 7、旋转夹具：公转或行星公自转夹具。速度从 0r～30r/min 无级可调； 8、供电电源：三相AC380V，50Hz；整机功率22KW； 9、选配件：光学膜厚测量系统、石英晶振测厚仪、高压离子轰击、霍尔离子源、冷却水机组等。 | |
