DM400-III方箱磁控溅射镀膜机
概述磁控溅射是利用磁场束缚电子的运动（即磁控管模式），其结果导至轰击基片的高能电子的减少和轰击靶材的高能离子的增多，使其具备了低温、高速两大特点 参考价面议
DM400-III方箱磁控溅射镀膜机
概述磁控溅射是利用磁场束缚电子的运动（即磁控管模式），其结果导至轰击基片的高能电子的减少和轰击靶材的高能离子的增多，使其具备了低温、高速两大特点 参考价面议
DM-200真空蒸发镀膜机
用途：本设备是我公司研发用于真空蒸发镀光学薄膜、有机物薄膜和金属薄膜 参考价面议
方箱真空蒸发镀膜机
用途：本设备是我公司研发用于真空蒸发镀光学薄膜、有机物薄膜和金属薄膜 参考价面议
P15等离子体清洗、刻蚀机
概述：等离子体清洗机由真空腔体及等离子电源、抽真空系统、充气系统、控制系统等部分组成 参考价面议
量产级有机小分子提纯设备升华仪BOF-8-280
主要特点　　本款有机小分子提纯(升华仪)主要针对生产用途是在高真空条件下对有机混合物进行升华达到纯化的目的(即蒸发后重结晶)，可以实现量产10-20kg,本款流场设计，经过工艺不断摸索改进,设备设有内控外控切换，配备高精度质量流量计和高真空机组，配备大容量冷凝过滤系统 参考价面议
量产级有机小分子提纯设备升华仪BOF-8-300
主要特点　　此系列升华仪专为生产型企业打造，可一次提纯多至10kg的有机混合物，本款流场设计，经过工艺不断摸索改进 参考价面议
量产级有机小分子提纯设备升华仪BOF-8-300（新款）
这是一款用于有机小分子升华提纯的专用设备 参考价面议
连续进出料等离子体增强回转PECVD设备-BTF-1200C-RP-PECVD
1、主要特点　　该款设备是全自动Plasma增强CVD系统(PECVD) 参考价面议
卷对卷连续生长PECVD设备RTR-III-80-PE
设备简介：该设备为我司研发用于石墨烯薄膜连续生长或者线性材料的连续的专用设备 参考价面议

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