低温等离子设备-广东汇鹏环保科技有限公司手机版

详细介绍

低温等离子设备工艺概述

/ Process Overview

低温等离子体技术是近年发展起来的废气处理新技术，低温等离子体处理废气的原理为：当外加电压达到气体的放电电压时，气体被击穿，产生包括电子、各种离子、原子和自由基在内的混合体。低温等离子体降解污染物是利用这些高能电子、自由基等活性粒子和废气中的污染物作用，使污染物分子在极短的时间内发生分解，以达到降解污染物的目的。

低温等离子体技术处理污染物的原理为：在外加电场的作用下，介质放电产生的大量高能电子轰击污染物分子，使其电离、解离和激发，然后便引发了一系列复杂的物理、化学反应，使复杂大分子污染物转变为简单小分子安全物质，或使有毒有害物质转变为无毒无害或低毒低害物质，从而使污染物得以降解去除。因其电离后产生的电子平均能量在1eV～10eV，适当控制反应条件可以实现一般情况下难以实现或速度很慢的化学反应变得十分快速。
电场的设计使废气粒子的运动速度较低，一般在零点几秒内便能使废气粒子荷上足够的电荷，带电粒子在电场中会受到电场力（库仑力）的作用，其结果是油烟粒子被吸附到阳极上。因此净化率非常高，而且特别适用于捕捉粒径较小和重量较轻的废气粒子。

低温等离子设备产品参数

/ Product parameters

型号	处理风量（m3/h）	外形尺寸（长×宽×高）mm	进出口尺寸（宽×高）mm	电场数量（个）	高压电源数量（套）	功率（KW）	交流电压（V）	设备重量（T）	风阻（Pa）
HPDL-05	5000	1300×1350×1000	1000×760	4	1	0.5	220	0.30	≦100
HPDL-10	10000	2400×1350×1000	1000×760	8	2	1	220	0.55	≦100
HPDL-15	15000	3500×1350×1000	1000×760	12	3	1.5	220	0.85	≦100
HPDL-20	20000	2400×1350×1800	1000×1600	16	4	2	220	1.15	≦100
HPDL-30	30000	3500×1350×1800	1000×1600	24	6	3	220	1.60	≦200
HPDL-40	40000	4600×1350×1800	1000×1600	32	8	4	220	2.15	≦200
HPDL-50	50000	5700×1350×1800	1000×1600	40	10	5	220	2.70	≦200
HPDL-60	60000	3500×2700×1800	2080×1600	48	12	6	220	3.2	≦200
HPDL-80	80000	4600×2700×1800	2080×1600	64	16	8	220	4.4	≦250
HPDL-90	90000	3500×2700×2640	2080×2440	72	18	9	220	5.0	≦400
HPDL-100	100000	5700×2700×1800	2080×1600	80	20	10	220	5.50	≦300

低温等离子设备工艺流程

/ Technological process

废气处理设备-低温等离子设备-工艺流程图

低温等离子设备产品特点

/ Product features

高效的处理效果

运行费用低

维护方便

模块化

占地面积小

产品简介

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