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产品介绍:
光谱椭偏仪是一种灵活的光学技术,可用于确定薄膜材料的光学和物理性能。在没有接触或损害材料的情况下,它的技术已经应用于研发实验室和用于监测薄膜生长和沉积过程的制造设备。依赖于样品反射的偏振光束的偏振状态的确定。当进行SE测量时,在宽波长范围内的许多波长处确定偏振状态。通过模型可以将偏振状态的变化追溯到薄膜的物理性质。材料的层厚、表面粗糙度、折射率(n)和消光系数(k)等特性可以通过回归分析精度确定。SE仪器使用白光源,并选择单独的波长进行电机驱动单色仪或可同时检测多个波长的多通道检测器进行检测。增加采集数据的角度和波长数量可提高分析精度,复杂的层结构。
产品参数:
波长范围 | 250~1100mm |
光斑尺寸 | 1~5mm |
试样尺寸 | 直径达300mm |
测量厚度范围 | 高达10μm |
测量时间 | 典型的1s每次 |
角度范围 | 10到90度 5度为一个间隔 |
精度 | 优于0.25% |
重复性 | <1A |
主要应用:
1.光刻胶、聚酰亚胺、氧化物、氮化物
2.光学涂层,TiO2,SiO2,Ta2O5 .....
3.半导体化合物,细胞间隙
4.功能薄膜在MEMS/MOEMS
5.薄膜晶体管(TFT)栈
6.导电氧化物:氧化铟锡
7.涂层的科研
8.非晶、纳米晶薄膜
9.薄金属层