【半导体产品清洗超纯水设备工艺】

预处理→反渗透→中间水箱→水泵→EDI装置→纯化水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→抛光混床→0.2或0.5μm精密过滤器→用水对象（≥18MΩ.CM）
 

【半导体产品清洗超纯水设备特点】　

为满足用户需要，达到符合标准的水质，尽可能地减少各级的污染，延长设备的使用寿命、降低操作人员的维护工作量.在工艺设计上，取达国家自来水标准的水为源水，再设有介质过滤器，活性碳过滤器，钠离子软化器、精密过滤器等预处理系统、RO反渗透主机系统、离子交换混床（EDI电除盐系统）系统等。 系统中水箱均设有液位控制系统、水泵均设有压力保护装置、在线水质检测控制仪表、电气采用PLC可编程控制器，真正做到了无人职守，同时在工艺选材上采用*和客户要求相统一的方法，使设备与其它同类产品相比较，具有更高的性价比和设备可靠性。
 

【应用场合】

1.半导体材料、器件、印刷电路板和集成电路；
2.电解电容器生产铝箔及工作件的清洗；　　
3.电子管生产、电子管阴极涂敷碳酸盐配液；　
4.显像管和阴极射线管生产、配料用纯水；　
5.黑白显像管荧光屏生产、玻壳清洗、沉淀、湿润、洗膜、管颈清洗用纯水；　　
6.液晶显示器的生产、屏面需用纯水清洗和用纯水配液；　
7.晶体管生产中主要用于清洗硅片，另有少量用于药液配制；　　
8.集成电路生产中高纯水清洗硅片；　
9.LCD液晶显示屏、PDP等离子显示屏；　　
10.高品质显像管、萤光粉生产；　　
11.半导体材料、晶元材料生产、加工、清洗；　　
12.超纯材料和超纯化学试剂、超纯化工材料；　　
13.实验室和中试车间；　　
14.汽车、家电表面抛光处理；　　
15.光电产品、其他高科技精微产品。