具备高过滤精度和高耐腐蚀性等特性的陶瓷过滤器，高水平的去除气体管道内的粒子，同时实现高选择性。（可以满足200℃高温烘干、H20浓度消减到5ppb以下）

• 对于亚微米LSI工艺，须向使用点供应高纯度工艺气体。为此，超清洁管道也是一个主要问题。为了满足这些要求，Pureron Japan开发了使用陶瓷作为过滤元件的全新过滤器，并在稳定条件下实现了0.003μm的高精度过滤。蚀刻和薄膜所需的高选择性。
• 去除诸如水和氧的杂质对于寻求高选择性是非常重要的。为了确保去除杂质，高温烘烤是的。Pureron Japan的陶瓷过滤器就是从这个角度开发的，可以在200°C下进行高温烘烤。通过免维护操作降低成本。
• 三层过滤结构，取决于颗粒直径的大小，很少产生堵塞。与传统过滤器相比，陶瓷过滤器还具有良好的耐久性和耐热性。因此，生产停工造成的损失很小，实现了长期成本降低。

过滤烘烤：200°C，2小时

金属帽

对于PGF-8型大流量，请联系我们。

去除率：0.003μm

建议流速：10 〜 200L/min.

20℃时的设计压力：17MPa（2465PSIG）

正常工作压力：小于1MPa（145PSIG）

20℃时允许压差：max.9.6MPa（1392PSIG）

连续使用温度：max.120℃

烘烤温度：200℃

外部泄漏量：2×10−11Pa・立方米/秒（He）以下 （或更少）

结构要素

外壳：SUS316L内面粗度

粗糙度：Rmax0.7μm以下 （或更少）

元件：氧化铝陶瓷、Al2O3

密封：PTFE

接头：1/4”、3/8”、1/2”、3/4”垫片密封、压缩密封等