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WCU410美国禾威WCU410化学镀铜加药控制器
面议WCU410美国禾威WCU410沉铜控制器添加设备
面议WEC410美国禾威WEC410系列导电率控制器
面议WPH410WALCHEM禾威WPH410系列pH控制器
面议WEC410WALCHEM禾威WEC410酸性蚀刻控制器
面议WEC410供应WEC410酸性蚀刻盐酸导电率控制器
面议WCT400美国禾威WCT400冷却塔加药控制器
面议WCT410WALCHEM禾威WCT410冷却塔自动添加设备
面议WCU美国禾威190787沉浸式感应探头电极
面议C6美国C6化学镍自动添加控制设备
面议190785WALCHEM禾威190785流通式探头电极
面议190784WALCHEM禾威190784流通式探头电极
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美国禾威WNI410化学镍自动添加系统--详细:
深圳市巨杰仪器设备有限公司一级代理美国禾威Walchem全系列水处理自动添加药水控制器!
集销售、安装、维护、维修及培训一体化服务!
化学沉铜/微蚀刻铜自动添加药水控制器(型号 WCU410-5N2N)
化学镀镍自动添加药水控制器(型号 WNI411-541N )
美国WALCHEM WCU WNI系列控制器是应用光电原理在线分析电镀缸内化学沉铜、微蚀铜及化学镀镍溶液浓度的变化,能减少人工滴定检验的需要,应用在蚀铜还可以省去换缸的需要,从而节省成本,增加生产能力。
WCU系列型号价钱经济,内置微处理器以菜单形式控制,能以克每升(g/L)或液盎司每加仑(oz/gal)来显示,并可透过菜单来切换镀铜或蚀铜模式免除更换控制器。可同时控制多达4个继电器,可选用电镀缸内沉浸式感应器(190787探头)或电镀缸外流通式感应器(190785探头),光纤光电技术,能提供稳定的、重复性的、精确的浓度测量,不会受电镀缸衰老、颜色变化或沉淀物突增影响。
WNI系列型号价钱经济,内置微处理器以菜单形式控制,能以克每升(g/L)或液盎司每加仑(oz/gal)来显示,控制器可以有只测量镍或附带有pH控制功能从而省去另外添置pH控制器的需要。电镀缸外流通式感应器(190784探头)能节省宝贵电镀缸空间(不一定需要消泡程序),光纤光电技术,能提供稳定的、重复性的、精确的浓度测量,不会受电镀缸衰老、颜色变化或沉淀物突增影响。
美国Walchem禾威系列另有:
pH/ORP自动添加药水控制器(W-130/230 WPH410 /420 WDP410/420/440)
导电率自动添加药水控制器(WEC410 WDEC410)
冷却塔控制器(WCT400/410WECT400/410 WDT400/410 WEDT410)
锅炉控制器(WBL300/310 WBL400/410 WDB400)
冷凝控制器(WCM300 WCM400 WDCM400)
净化/消毒控制器(WDIS 310 WDIS410)
Web Master ONE在线分析过程控制器