尾气处理设备
品牌
其他厂商性质
所在地
等离子水洗Local Scrubber设备：去除半导体Dry Etch、ThinFilm、Diffusion等晶圆工艺制程中使用或产生的PFC温室气体和有毒有害气体，如：CF4、NF3、SF6、C2F6、CHF3、CH2F2等。
通过直流电源，使工作气体（氮气）进入等离子体反应器，在正负电流的作用下，被电离成等离子体，瞬间产生巨大的火焰，产生的高温火焰将废气分解。
本装置的直流电弧等离子体为非转移型，两电极区域不参与反应，只产生等离子体，产生的火焰温度可达3000度以上。
等离子反应器的MTBF大于1年，反应室内腔的材质耐热和耐腐，具有四个进气口，装置具备冷却区、喷淋区及两级填料除雾区，对PFC温室气体的去除效率>90%。
| 去除效率 | CF4>90%@150slm、NF3>95%@300slm |
| MTBF | >6months; |
| MTTR | <1.5hr |
| 材质 | 内腔PTEE、水箱CPVC |
| 等离子弧使用寿命 | >1year |
| 尺寸（mm） | 800*800*1850 |
| 进气口 | NW50*4 |
| 耗能 | 12kw for CF4>90%;9kw for NF3>95% |
| 水量 | <4slm |
