我公司拥有多名日本专家、博士工程师及*经营管理团队，拥有专业从事碳化硅涂层以及对石墨产品进行高温纯化除杂技术。公司产品及技术广泛应用于半导体行业，LED行业，航天行业，化工行业，光伏行业，包装行业，耐腐蚀行业、冶金行业等领域。

   公司通过引进国外的CVD法碳化硅涂层及高温纯化装置与技术，根据客户需要为不同形状，不同结构和大小的石墨件纯化除杂，纯化后的石墨杂质可降至小于5PPM,并采用高温化学气相沉积法沉积厚度的碳化硅涂层。

   相比以往的工艺，CVD法生产的碳化硅晶体结构致密，晶格排列整齐，与沉底材料结合更紧密等优势。具有耐高温，耐磨损，耐腐蚀，易导热的特点，凭借这些涂层，我们的产品被广泛应用于制作流化床和热氢化的反应器部件，CZ直拉单晶炉的导流筒部件，以及硅外延和GaN外延的托盘。

产品指标：

材料：进口等静压高纯石墨

纯度：小于5ppm

SIC涂层厚度：120µm±30µm(涂层厚度可根据客户要求定制)

涂层表面粗糙度：6-8µm

涂层后基座电阻率：0.0004-0.00045Microhm-m

高均匀度和优异的热传导性

耐电浆轰击

j佳均温性

高耐腐蚀性和稳定性

理想的电阻特性

使用寿命长

应用领域：

LED芯片产业MOCVD外延片承载石墨托盘

ICP蚀刻制程用之承载盘

硅外延及GaN外延等各Ⅲ-V主族、Ⅱ-Ⅵ副族化合物半导体半导体材料外延托盘

合能阳光

提供各种规格碳化硅涂层石墨制品：承载盘，预热环，筛盘，顶针等相关制品

可接受根据图纸定制加工业务

质量稳定，交货期短

主要客户：

国内半导体芯片企业、LED光电企业等