otsukael静态光散射光度计 照度计SLS-6500HL的介绍

otsukael静态光散射光度计 照度计SLS-6500HL的介绍

• 绝对分子量、惯性半径和第二维里系数可以使用静态光散射法测量。

• 可以进行 Zimm plot、Berry plot、Zimm square root plot、单一浓度法 plot、Debye plot 等各种分析。

• 确定胶束的总数。

• 可选的棒状样品池支架可对光纤材料（散装）进行绝对散射强度测量。

产品信息

• 膜厚测量范围 1 nm 至 92 μm（SiO ₂换算）

• 薄膜厚度值的高重复性

• 每点1秒以内的高速测量

• 图案可瞄准微小点（最小Φ3μm）

• 适用于图案化晶圆的膜厚测绘

• 可以获取用于图案对齐的图像

• 可在紫外-可见（300 至 800 nm）波长范围内测量椭圆参数

• 能够分析纳米级多层薄膜的膜厚

• 通过 400 通道或更多通道的多通道光谱快速测量椭圆光谱

• 支持通过可变反射角测量对薄膜进行详细分析

• 通过创建光学常数数据库和添加配方注册功能提高可操作性

• 椭圆参数（tanψ，cosΔ）测量

• 光学常数（n：折射率，k：消光系数）分析

• 膜厚分析

• 半導体ウェーハ
  ゲート酸化薄膜，窒化膜
  SiO₂，SixOy，SiN，SiON，SiNx，Al₂O₃，SiN_xO_y，poly-Si，ZnSe， BPSG，TiN
  レジストの光学定数(波長分散)

• 化合物半導体
  Al_xGa_(1-x)As 多層膜，アモルファスシリコン

• FPD
  配向膜

• 各種新素材
  DLC(Diamond Like Carbon)，超伝導用薄膜，磁気ヘッド薄膜

• 光学薄膜
  TiO₂，SiO₂，反射防止膜

• リソグラフィー分野
  g線(436nm)，h線(405nm)，i線(365nm)などの各波長におけるn，k評価

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