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instrumentsystems取样式光度计
¥120000sibata粉尘浓度计
¥80000toadkk浊度计
¥660000tokisangyo粘度计
¥18000otsukael积分光度计
¥220000德国polytec 显微式激光测振仪
¥3000德国polytec 扫描式激光测振仪
¥3000日本nippondenshoku手持式分光光度计
¥3000日本nippondenshoku手持式色差计
¥3000日本nippondenshoku小型色差计/白度计
¥3000日本nippondenshoku色度计
¥3000日本nippondenshoku分光色度计
¥3000himax紫外线照射装置 UV灯 汞灯UH102 & UH104的介绍
himax紫外线照射装置 UV灯 汞灯UH102 & UH104的介绍
该设备去除有机化合物污渍,主要是油性污染物。
湿式清洁去除灰尘和污垢后,使用本设备作为画龙点睛,
清洁效果更佳。
144AX 型从平面汞灯发出紫外线。
该照射能量和产生的臭氧用于分解和氧化有机化合物以去除污垢。
它不会因热量或摩擦而损坏工作表面,并有效清洁。无需担心污垢和灰尘的再沉积,或有机化合物的污染。
该设备拥有比湿式清洁更有效的清洁能力。(*参照下级处理条件表。)
如果在用超纯水冲洗前加上轻微清洁,可以去除油基污染膜,也可以通过冲洗去除细小的附着灰尘。
【什么是接触角?]
将试剂水滴在清洁过的表面上并评估湿度。在紫外线照射约 30 至 60 秒后,接触角显着下降。
4度的接触角意味着有机化合物膜小于单个分子。
除了半导体领域,它还可以应用于各种清洁应用。
■ 可用于电子材料、液晶、汽车、家电、ETC等。
■ 陶瓷基板、液晶玻璃、阴极射线管、磁头、铬膜等的附着力提高和表面改性。
■ 硅片、 GaSa晶圆、透镜、镜子、太阳 电池面板等的
清洗、密合性的提高 ■ 切割胶带密合性的降低(*部分类型的密合性得到改善。)
■ 抗蚀剂硬化、结冰、残留物去除的促进
■ FPD/PDP的清扫
■ 增加wafer氧化层
■ EPROM和存储器的中和
■ 各种材料的清洗、附着力改善、氧化增强、固化等■ 生化
灭菌等
可选功能
■ Suprasil UV Lamp(合成石英玻璃紫外灯)
短片的透过率波长184.9nm的紫外线对于标准灯来说是65%,但是这款灯
将90%的臭氧产生率提高了一倍,并且缩短了清洗时间。
■ 臭氧消除装置适用于希望避免排气管排放臭氧的人员(
与排气装置组合使用)。
与臭氧消除器组合使用时,无需担心臭氧气味。
■ 多种托盘尺寸可供选择。(单位:mm)(参考下方托盘尺寸表。)
■ 紫外线照度计输入:AC100V 12A
加工条件 | 接触角 |
未经处理的玻璃板 | 26 |
洗涤剂→自来水→碳氢溶剂 | 39 |
洗涤剂→自来水→纯净水 | 17 |
洗涤剂 → 自来水 → IPA * | 14 |
臭氧水 | 10度以下 |
洗涤剂→自来水→等离子 | 五 |
洗涤剂 → 自来水 → UVO 清洁剂 | 四 |