单靶直流磁控溅射镀膜仪
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单靶直流磁控溅射镀膜仪

单靶直流磁控溅射镀膜仪

参考价: 订货量:
￥ 38600 1件

具体成交价以合同协议为准
2023-10-18 10:00:33
195
属性：
靶材材质:金银铜铬镍钛镁铝；靶材尺寸:50mm；产地:国产；溅射气体:氩气；样品仓尺寸:80mm；样品台尺寸:80mm；
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产品属性
靶材材质
金银铜铬镍钛镁铝
靶材尺寸
50mm
产地
国产
溅射气体
氩气
样品仓尺寸
80mm
样品台尺寸
80mm
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郑州科创实验仪器设备有限公司

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产品简介

单靶直流磁控溅射镀膜仪
直流磁控溅射真空镀膜设备，7寸人机界面，自动手动模式切换控制，功率可达1000w

直流磁控溅射
单靶直流磁控溅射镀膜仪可用于制备单层铁电薄膜、导电#分享秋日好天气# 薄膜、合金薄膜等

详细介绍

单靶直流磁控溅射镀膜仪 直流磁控溅射真空镀膜设备，7寸人机界面，自动手动模式切换控制，功率可达1000w

直流磁控溅射单靶直流磁控溅射镀膜仪可用于制备单层铁电薄膜、导电#分享秋日好天气# 薄膜、合金薄膜等。该单靶磁控溅射镀膜仪与同类设备相比，其不仅应用广泛，且具有体积小便于操作的优点，是一款实验室制备材料薄膜的理想设备，特别适用于实验室研究固态电解质及OLED等单靶直流磁控溅射镀膜仪单靶直流磁控溅射镀膜仪是我公司自主研发的一款高性价比磁控溅射镀膜设备，具有标准化、模块化、可定制化的特点。单靶直流磁控溅射镀膜仪所配电源为1000W大功率直流电源，可用于高能量的金属溅射镀膜，根据实验需求也可以选配其他规格的直流或者射频电源来实现各种材料的镀膜操作

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