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特别适合于生产胶体溶液或极细的乳液和悬浮液。分散性能允许研磨分散机CK 2000用于连续过程中,在一次通过中为研磨颗粒提供狭窄分布范围。对于难度大的研磨任务,胶体磨可以通过管连接安装到带有工作容器的再循环回路中
特点:
A 线速度很高,剪切间隙非常小,当物料经过的时候,形成的摩擦力就比较剧烈,结果就是通常所说的湿磨
B 定转子被制成圆椎形,具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。
C 定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离
D 在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。
E 高质量的表面抛光和结构材料,可以满足不同行业的多种要求
研磨分散机 | 流量(l/h) | 转速(rpm) | 线速度(m/s) | 功率 (KW) | 进出口尺寸 |
CK2000/4 | 100 | 14000 | 44 | 4 | DN25 / DN15 |
CK2000/5 | 500 | 10500 | 44 | 7.5 | DN40 / DN32 |
CK 2000/10 | 1000 | 9000 | 47 | 11 | DN50 /DN 50 |
CK2000/20 | 1500 | 9000 | 56 | 15 | DN50 /DN 50 |
CK 2000/30 | 2,000 | 9000 | 61 | 22 | DN65 /DN 50 |
CK 2000/50 | 2500 | 9000 | 63 | 30 | DN65 / DN50 |
CK 2000/60 | 3000 | 9000 | 65 | 37 | DN80 / DN65 |
CK 2000/70 | 4000 | 6000 | 56 | 55 | DN80 / DN65 |
*流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性,同时流量可以被调节到最允许量的10%