DISC-RIE-601/801/1201-反应离子刻蚀机(RIE）-北京中科复华科技有限公司手机版

产品简介

反应离子腐蚀技术是一种各向异性很强、选择性高的干法腐蚀技术。它是在真空系统中利用分子气体等离子来进行刻蚀的，利用了离子诱导化学反应来实现各向异性刻蚀，即是利用离子能量来使被刻蚀层的表面形成容易刻蚀的损伤层和促进化学反应，同时离子还可清除表面生成物以露出清洁的刻蚀表面的作用

应用方向：科研与教学

产品优势：刻蚀速率控制方便，耐氯基强腐蚀气体，带双片送取样室（Load-Lock）

产品配置：

★样片数量及尺寸：1片Ф6英寸

★刻蚀材料：包括并不限于单晶硅、多晶硅、SiO2、Si3N4、Ti、W、聚合物等

★刻蚀腔体：高真空系统

★Load-Lock：低真空系统或高真空系统。双片装，样品自动运送。

★刻蚀不均匀性：±3%-±6%

★刻蚀速率：0.1-4μm/min（视具体材料与工艺）

★工作台：可升降，包含水冷

★电源配置：下电偏压，包含自动匹配

★气路数量与种类：6路气路，其中2路耐腐蚀VCR焊接或用户选配

★He冷背吹系统：可选配

★终点检测控制：可选配质谱仪

★操作模式：全自动+半自动控制