电去离子(EDI)系统主要是在直流电场的作用下,通过隔板的水中电介质离子发生定向移动,利用交换膜对离子的选择透过作用来对水质进行提纯的一种科学的水处理技术。电渗析器的一对电极之间,通常由阴膜,阳膜和隔板(甲、乙)多组交替排列,构成浓室和淡室(即阳离子可透过阳膜,阴离子可透过阴膜).淡室水中阳离子向负极迁移透过阳膜,被浓室中的阴膜截留;水中阴离子向正极方向迁移阴膜,被浓室中的阳膜截留,这样通过淡室的水中离子数逐渐减少,成为淡水,而浓室的水中,由于浓室的阴阳离子不断涌进,电介质离子浓度不断升高,而成为浓水,从而达到淡化,提纯,浓缩或精制的目的。

LCD液晶显示屏、PDP等离子显示屏、高品质灯管显像管、微电子工业、FPC/PCB线路板、电路板、大规模、超大规模集成电路需用大量的高纯水、超纯水清洗半成品、成品。集成电路的集成度越高，对水质的要求也越高，这也对超纯水处理工艺及产品的简易性、自动化程度、生产的连续性、可持续性等提出了更加严格的要求。

一、产品总述：

EDI超纯水设备是用于工业生产用水水的纯水制取装置，根据客户的需求采用的不同的工艺流程来制取符合客户生产用纯水的标准。系统采用RO+EDI纯化水工艺，产水水质满足客户的生产用水要求，符合药典、GMP、FDA要求。系统整体人性化设计，模块化安装，占地面积小，操作简单方便，运行稳定，节能。

相关参数：

进水源：反渗透RO产水，电导率1-10μ S/cm
PH值： 6.5-9.0
温度： 5℃--38℃
硬度： ≤0.5ppm(以 CaCO3 计)
颗粒： ≤1μ m
有机物： TOC 小于 0.5ppm（建议检测不出）
氧化物： ≤0.02ppm
硅： ≤0.02ppm
重金属离子： ≤0.1ppm
进水压力： 0.2—0.4MPa
产水压力： 产水压力比浓水压力高0.05-0.1Mpa，膜堆压差取决于流量与温度

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二、制水工艺（演示）：

三、设备图片预览：

四、超纯水设备应用范围
1.化妆品行业：
护肤品生产用纯水、洗发水生产用纯水、染发剂生产用纯水、牙膏生产用纯水 、洗手液生产用水。

2.食品、饮料、纯净水行业：
食品生产用水和饮料生产用水以及纯净水的生产

3.电子工业：
铝箔清洗；电子管喷涂配液；显相管玻壳清洗、沉淀、湿润、洗膜、管颈清洗。
液晶屏屏面清洗和配液：晶体管和集成电路的硅片清洗用水、配制水。

4.电池行业：
蓄电池生产用纯水、锂电池生产用纯水、太阳能电池生产用纯水。

5.混凝土外加剂配制用纯水：
玻璃镀膜用高纯水、玻璃制品清洗用水、灯具清洗用水。

6.纺织印染工业：
印染助剂配制用纯水、湿巾用纯水、面膜用纯水。

7.超声清洗用纯水

8.涂装行业：
涂料配制用纯水、电镀配制清洗水、电泳漆配制清洗纯水。

五、不同出水品质的工艺和材质选项

六、操作系统显示界面（下为演示界面）：