电子超纯水设备出水水质符合美国ASTM纯水水质标准、我国电子工业部电子级水质技术标准(18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm五级标准)、我国电子工业部高纯水水质试行标准、美国半导体工业用纯水指标、日本集成电路水质标准、国内外大规模集成电路水质标准。

   电子超纯水处理设备，其荧光屏内壁用喷涂法或沉淀法附着一层荧光物质，是锌或其他金属的硫化物组成的荧光粉颗粒并用硅酸钾粘合而成，其配制需用超纯水，如纯水中含铜在8ppb以上，就会引起发光变色；含铁在50ppb以上就会使发光变色、变暗、闪光跳跃；含有机物胶体、微粒、细菌等，就会降低荧光层强度及其与玻壳的粘附力，并会造成气泡、条迹、漏光点等废次品。在黑白显像管荧光屏生产的12个工序中，玻壳清洗、沉淀、湿润、洗膜、管颈清洗等5个工序需使用纯水，每生产一个显像管需用纯水80kg。液晶显示器的屏面需用纯水清洗和用纯水配液，如纯水中存在着金属离子、微生物、微粒等杂质，就会使液晶显示电路发生故障，影响液晶屏质量，导致废、次品。显像管、液晶显示器生产对纯水水质的要求。

一、产品总述：

EDI超纯水设备是用于工业生产用水水的纯水制取装置，根据客户的需求采用的不同的工艺流程来制取符合客户生产用纯水的标准。系统采用RO+EDI纯化水工艺，产水水质满足客户的生产用水要求，符合药典、GMP、FDA要求。系统整体人性化设计，模块化安装，占地面积小，操作简单方便，运行稳定，节能。

相关参数：

进水源：反渗透RO产水，电导率1-10μ S/cm
PH值： 6.5-9.0
温度： 5℃--38℃
硬度： ≤0.5ppm(以 CaCO3 计)
颗粒： ≤1μ m
有机物： TOC 小于 0.5ppm（建议检测不出）
氧化物： ≤0.02ppm
硅： ≤0.02ppm
重金属离子： ≤0.1ppm
进水压力： 0.2—0.4MPa
产水压力： 产水压力比浓水压力高0.05-0.1Mpa，膜堆压差取决于流量与温度

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二、制水工艺（演示）：

三、设备图片预览：

四、超纯水设备应用范围
1.化妆品行业：
护肤品生产用纯水、洗发水生产用纯水、染发剂生产用纯水、牙膏生产用纯水 、洗手液生产用水。

2.食品、饮料、纯净水行业：
食品生产用水和饮料生产用水以及纯净水的生产

3.电子工业：
铝箔清洗；电子管喷涂配液；显相管玻壳清洗、沉淀、湿润、洗膜、管颈清洗。
液晶屏屏面清洗和配液：晶体管和集成电路的硅片清洗用水、配制水。

4.电池行业：
蓄电池生产用纯水、锂电池生产用纯水、太阳能电池生产用纯水。

5.混凝土外加剂配制用纯水：
玻璃镀膜用高纯水、玻璃制品清洗用水、灯具清洗用水。

6.纺织印染工业：
印染助剂配制用纯水、湿巾用纯水、面膜用纯水。

7.超声清洗用纯水

8.涂装行业：
涂料配制用纯水、电镀配制清洗水、电泳漆配制清洗纯水。

五、不同出水品质的工艺和材质选项

六、操作系统显示界面（下为演示界面）：