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随着IC设计与制造流程的不断演进,针对集成电路器件异常的失效分析(Failure Analysis)变得愈加重要,难度也愈加提升。失效分析领域中,在成千上万的晶体管中如何既快速又准确的进行失效定位与分析,已成为提升芯片质量非常重要议题。
芯片在研發、生产或使用过程中被静电、外力影響,提供完善芯片失效分析所需之工具EFA(电性失效分析)、PFA(物性失效分析)、DEFA(动态失效分析)、工艺筛片分析(DPA)资源与设备。
广测拥有完善的芯片失效分析工具,可为您提供芯片失效分析与工艺筛片分析(DPA)检测服务,测试数据准确可靠,完备的实验室信息管理系统,保障每个服务环节的高效、保密运转。
面对数种失效模式,广测的失效分析专家,具有丰厚的从业经验与洞察力。可替客户制定高效的失效分析流程,并提供专业的失效分析诊断报告。
适用测试标准 : 协助客户通过JEDEC、MIL—STD、AEC-Q等可靠性国际试验标准。
适用产品范围: 集成电路芯片、晶体管、MOS管、PCBA…等。
常规样品要求: 请联系客服,以具体标准为准。
━ 非破坏分析
超音波扫描显微镜 (CSAM/SAT)
2D & 3D X光检测 (2D & 3D X-ray)
金相顯微鏡、紅外光顯微鏡 (3D-OM、IR-OM)
━ 电性失效分析
砷化镓铟微光显微镜 (InGaAs)
雷射光阻值变化侦测 (OBIRCH)
热辐射失效定位显微镜 (Thermal EMMI)
动态微光显微镜分析(DEFA)
动态雷射扫描分析(DLAS)
电光探测/电光频率成像(EOP/EOPM)
━ 物理性/化学性失效分析
Laser/化学开盖 (Decap)
IC去层 (Delayer)
传统截面研磨 (Cross-section)
扫描式电子显微镜 (SEM & EDX)
离子束截面研磨/抛光 (CP)
雙束离子束截面分析(DB-FIB)
━ 数据分析与汇整报告
━ 失效分析工具应用咨询及培训