CVD高温管式气氛炉厂家,价格

JK08-13-2ACVD高温管式气氛炉厂家,价格

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2018-05-14 09:00:00
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产品简介

上海将来实验设备有限公司供应CVD管式气氛炉适用于CVD工艺,如碳化硅镀膜、陶瓷基片导电率测试、ZnO纳米结构的可控生长、陶瓷电容器(MLCC)气氛烧结等实验。

详细介绍

上海将来实验设备有限公司供应JK08-13-2ACVD高温管式气氛炉

如本产品参数不符合您要求,您可,由我们销售工程师为您*符合您要求的产品。

JK08-13-2ACVD高温管式气氛炉 产品特点:

可根据用户需要设计生产(二温区、三温区、多温区),可预抽真空,通多种气氛。真空泵、阀采用进口设备,性能可靠。控制电路选用模糊PID程序控制技术,具有控温精度高,温冲幅度小,性能可靠,简单易操作等特点。在预热方式上设有本公司自主研发的自动升温预热程序。在程序下*不需要操作人员监看、调整工作电流,可将工作人员从繁琐的操作中解放出来。本系列CVD高温管式气氛炉制造技术已达国内水平。

JK08-13-2ACVD高温管式气氛炉 技术参数:

型号
JK08-13-2A
设计温度
1000-1300℃
控温精度
±1℃
极限真空度
-0.01mpa(机械泵)
温区
双温区
管径长度
Ф100*1200
输入功率
9KW
电源电压
AC380V
加热原件
硅碳棒、镍铬丝

 

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