品牌
代理商厂商性质
上海市所在地
高通量光催化反应
Lumidox
II 96 位 LED 阵列
另一种平坦的、化学惰性的漫反射垫可用于标准 SLAS 足迹，以及利基应用，如照明细胞培养瓶、储存板和大型容器。
两种阵列样式均可用于主动冷却底座或被动（实心）底座。两种不同的镜头样式和两种底座允许 48 种以上的可能配置。注意：实心底座阵列不是自冷却的，需要使用足够的冷却器/冷却设备。
关于阵列冷却和工作温度的说明
为了增加保护，每个设备都有一个内置的热熔断开关，在过热的情况下，会自动关闭设备。Solid Base Array的跳闸温度为95°C，冷却至 65°C 时会重置。如果温度超过 75°C，主动冷却基础阵列将关闭。一旦它们冷却到 45°C，它们就会重置。注意：由于冷却风扇的干扰，主动冷却底座阵列与强磁场不兼容，例如在大多数滚筒搅拌器中发现的强磁场。
