主要用途
是生产各种金属膜电阻及氧化膜电阻的设备，可以完成高、中、低不同阻值的镀膜工艺。

主要组成
设备由真空室、真空机组、直流溅射源、射频溅射源、分流式滚筒、充气装置、真空测量及其它辅助装置等组成。

主要特点
★生产能力大，根据型号的不同，每炉可镀制装载量达分别为10～11Kg、20～25Kg、30～40Kg左右的瓷体。
★磁控溅射源工作特性稳定可靠，沉积速率高，阴极体采用可变磁场，大大提高了靶材的利用率，在40%以上。
★根据不同电阻值和工艺要求配置不同溅射源，工艺适应性强。如配置射频溅射源可镀制介质膜，配备离化源可镀制氧化膜。
★采用特殊分流式滚筒，瓷体镀制膜层均匀，阻值集中。
★如配用PLC可编程控制，设备自动化水平提高，性能更加可靠，操作更为简便。
★调节沉积室的气氛可控沉积膜的阻值和TCR（温度系数）；镀制后电阻在合适的“后调整”热处理后TCR可接近于零。

温州市佳能真空电镀设备科技有限公司是一家以真空镀膜设备为主营业务，集研发、生产、销售、服务于一体的综合性高科技环保型企业。佳能真空既是设备制造商，也是镀膜工艺的开发商，可为客户提供整套设备、工艺流程的设计以及技术人员的培训。

公司拥有一支技术精良的研发团队，并聘请国内外多位专家为技术顾问，具备较强的自主研发能力，现已研发制造连续式磁控溅射镀膜生产线、平面矩形弧工具镀膜机、多功能中频磁控溅射多弧复合离子镀膜机、中频磁控溅射镀膜机、多弧离子镀膜机、光学镀膜机以及真空蒸发镀膜机等系列真空镀膜设备。佳能真空多年来凭着优质的产品和周到的售后服务，深受业内人士的好评，并已通过ISO9001质量管理体系认证。

科技创造品质、诚信打造品牌是我们的经营原则，信誉*、客户*是我们的服务宗旨，*的售后服务是我们的服务保障，不断创新是我们佳能永恒的追求，我们将竭诚为国内外客商提供更好的产品，更优的价格和更完善的售后服务，佳能真空期待与您共创佳业。

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